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一种用于微纳器件电学接触的EGaIn探针的制备方法

申请号: CN202311693256.0
申请人: 天津大学
申请日期: 2023/12/11

摘要文本

本发明公开一种用于微纳器件电学接触的EGaIn探针的制备方法,通过电化学镀金处理改善了从注射器挤出的EGaIn液滴与不锈钢针头的结合力,在精密操作台的辅助下,EGaIn液滴在注射器针头与牺牲板的之间拉伸至临界半径处,针头顶端形成稳定的圆锥状尖端,用于器件测试的接触。本发明的技术方案提高EGaIn针尖的形貌稳定性,进而提高了微纳器件电学测试的准确性和可靠性。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种用于微纳器件电学接触的EGaIn探针的制备方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311693256.0
申请日 2023/12/11
公告号 CN117753943A
公开日 2024/3/26
IPC主分类号 B22D17/32
权利人 天津大学
发明人 于曦; 樊亚聪; 韩宾; 李瑶
地址 天津市津南区海河教育园雅观路135号天津大学北洋园校区

专利主权项内容

1.一种用于微纳器件电学接触的EGaIn探针的制备方法,其特征在于,将EGaIn置于注射器中,通过控制注射器的挤压力度挤出EGaIn液滴,与牺牲板接触,EGaIn液滴润湿并粘附在牺牲板上;控制注射器的抬高速度,EGaIn液滴在注射器针头和牺牲板之间发生拉伸,形成沙漏状,至临界半径处,EGaIn液滴不再保持连续状态,在注射器针头上,形成EGaIn圆锥体,其表面为GaO;注射器的针头进行镀金处理,以增强EGaIn液滴与针头的结合力。23