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光罩清洗装置及光罩清洗方法
摘要文本
本发明涉及一种光罩清洗装置及光罩清洗方法。所述光罩清洗装置包括:承载结构,包括承载面,所述承载面用于承载待清洗的光罩,所述光罩包括图形区域以及环绕所述图形区域的外周分布的残留物;喷头,位于所述承载结构上方,所述喷头包括阻挡柱、环绕所述阻挡柱的外周分布的外壳和位于所述阻挡柱与所述外壳之间的喷口,所述喷头通过所述喷口喷射出呈环状分布的湿法清洗剂;控制器,连接所述承载结构和所述喷头,所述控制器用于在所述喷头喷射所述湿法清洗剂时控制所述承载结构和所述喷头沿相同的方向以相同的速度自转。本发明在提高所述光罩表面的残留物的去除效果的同时,也能减少对所述光罩上的所述图形区域的损伤。
申请人信息
- 申请人:睿晶半导体(宁波)有限公司
- 申请人地址:315205 浙江省宁波市镇海区九龙湖镇长石孙陆工业区厂房
- 发明人: 睿晶半导体(宁波)有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 光罩清洗装置及光罩清洗方法 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202311422977.8 |
| 申请日 | 2023/10/31 |
| 公告号 | CN117148666B |
| 公开日 | 2024/2/9 |
| IPC主分类号 | G03F1/82 |
| 权利人 | 睿晶半导体(宁波)有限公司 |
| 发明人 | 常聪 |
| 地址 | 浙江省宁波市镇海区九龙湖镇长石孙陆工业区厂房 |
专利主权项内容
1.一种光罩清洗装置,其特征在于,包括:承载结构,包括承载面,所述承载面用于承载待清洗的光罩,所述光罩包括图形区域以及环绕所述图形区域的外周分布的残留物;喷头,位于所述承载结构上方,所述喷头包括阻挡柱、环绕所述阻挡柱的外周分布的外壳和位于所述阻挡柱与所述外壳之间的喷口,所述喷头通过所述喷口喷射出呈环状分布的湿法清洗剂;控制器,连接所述承载结构和所述喷头,所述控制器用于在所述喷头喷射所述湿法清洗剂时控制所述承载结构和所述喷头沿相同的方向以相同的速度自转。