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一种高阻隔耐穿刺复合包装膜及其制备方法
摘要文本
本申请公开了一种高阻隔耐穿刺复合包装膜及其制备方法，该复合包装膜包括尼龙膜和EVOH共挤膜，以质量份计，所述尼龙膜的原料包括：尼龙树脂100份；增塑剂2～5份；添加剂：0.1～5份；改性纳米填料5～10份；所述改性纳米填料由质量比为100：3～6的纳米填料和马来酸改性液体聚丁二烯混合制得。本申请的高阻隔耐穿刺复合包装膜具有优异的戳穿强度，在受压时不易破裂，保持对内容物的保护作用。 关注公众号马 克 数 据 网
申请人信息
- 申请人:浙江鹏远新材料科技集团股份有限公司
- 申请人地址:311100 浙江省杭州市余杭区良渚街道安溪路2-9号3幢
- 发明人: 浙江鹏远新材料科技集团股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种高阻隔耐穿刺复合包装膜及其制备方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311063831.9 |
| 申请日 | 2023/8/23 |
| 公告号 | CN117360033A |
| 公开日 | 2024/1/9 |
| IPC主分类号 | B32B27/34 |
| 权利人 | 浙江鹏远新材料科技集团股份有限公司 |
| 发明人 | 林伟强; 唐杭敏; 陶加祥; 高勇; 金伟浩; 朱杭丽; 俞涵静 |
| 地址 | 浙江省杭州市余杭区良渚街道安溪路2-9号3幢 |
专利主权项内容
1.一种高阻隔耐穿刺复合包装膜，其特征在于，包括尼龙膜和EVOH共挤膜，以质量份计，所述尼龙膜的原料包括：尼龙树脂100份；增塑剂2～5份；添加剂：0.1～5份；改性纳米填料5～10份；所述改性纳米填料由质量比为100：3～6的纳米填料和马来酸改性液体聚丁二烯混合制得。