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基于光谱变化的微纳光纤锥区受力位置检测方法和装置
摘要文本
本发明公开了一种基于光谱变化的微纳光纤锥区受力位置检测方法和装置。方法是将待测压力施加到微纳光纤的锥区，后根据经过微纳光纤的光谱变化对待测压力及受力区间的位置检测，具体根据待测压力施加前后所检测到的光谱变化、待测压力移动位置前后所检测到的光谱变化并结合待测压力施加的位置判断；装置中，微纳光纤的腰区放置在柔性基底上并被柔性薄膜包埋，微纳光纤两端分别连接白光光源和光谱仪，微纳光纤正上方设置三维压力传感器，并且再底面设置施加压力的按压头。本发明通过比较不同受力位置和大小下的全输出光谱，对光纤锥区内不同受力位置能够进行准确测定，且结合人工智能算法，成功实现了对位置和力的高精度预测。。来自：www.macrodatas.cn
申请人信息
- 申请人:之江实验室
- 申请人地址:311121 浙江省杭州市余杭区中泰街道科创大道之江实验室
- 发明人: 之江实验室
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 基于光谱变化的微纳光纤锥区受力位置检测方法和装置 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311736669.2 |
| 申请日 | 2023/12/18 |
| 公告号 | CN117433677A |
| 公开日 | 2024/1/23 |
| IPC主分类号 | G01L1/24 |
| 权利人 | 之江实验室 |
| 发明人 | 侯磊; 姚妮; 姜婷; 余婷; 张磊; 张吉 |
| 地址 | 浙江省杭州市余杭区中泰街道科创大道之江实验室 |
专利主权项内容
1.一种基于光谱变化的微纳光纤锥区受力位置检测方法，其特征在于：待测压力施加到微纳光纤(2)的锥区，然后根据经过微纳光纤(2)所检测到的光谱变化对待测压力及受力区间的位置进行检测，具体是根据待测压力施加前后所检测到的光谱变化、待测压力移动位置前后所检测到的光谱变化并结合待测压力施加的位置进行判断。