一种坡度角检测方法、装置、设备及介质

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本发明涉及光刻制程领域，特别是涉及一种坡度角检测方法、装置、设备及介质，通过获取待测图案的量测灰度图及所述量测灰度图上量测路径的关键尺寸数据；根据所述量测灰度图获取所述量测路径对应的路径灰度信息；将所述路径灰度信息进行归一化处理，得到标准灰度信息；根据所述量测路径及所述标准灰度信息，确定路径灰度曲线图；根据所述路径灰度曲线图及所述关键尺寸数据，确定边缘灰度阈值；确定当灰度值为所述边缘灰度阈值时，所述路径灰度曲线图上的点，作为判据点；计算所述路径灰度曲线图在所述判据点处的目标斜率；根据所述目标斜率，利用预存储的坡度角‑斜率对应关系，得到所述待测图案的坡度角。避免破坏半导体晶圆，提升了检测效率。