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一种印章去除方法和系统
摘要文本
本说明书涉及图像处理领域，特别涉及一种印章去除方法和系统，该方法包括：获取待处理图像，待处理图像为包括印章的图像；基于待处理图像，通过印章去除模型，获取无印章预测图像和印章遮罩图像；无印章预测图像为去除印章后的图像；基于待处理图像和印章遮罩图像，生成保留图像；基于无印章预测图像和保留图像，确定目标图像。
申请人信息
- 申请人:杭州核新软件技术有限公司
- 申请人地址:310012 浙江省杭州市滨江区滨安路1197号5幢426室
- 发明人: 杭州核新软件技术有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种印章去除方法和系统 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311388301.1 |
| 申请日 | 2023/10/23 |
| 公告号 | CN117351032A |
| 公开日 | 2024/1/5 |
| IPC主分类号 | G06T7/11 |
| 权利人 | 杭州核新软件技术有限公司 |
| 发明人 | 丁宝进; 夏鑫 |
| 地址 | 浙江省杭州市滨江区滨安路1197号5幢426室 |
专利主权项内容
1.一种印章去除方法，包括：获取待处理图像，所述待处理图像为包括印章的图像；基于所述待处理图像，通过印章去除模型，获取无印章预测图像和印章遮罩图像；所述无印章预测图像为去除所述印章后的图像；基于所述待处理图像和所述印章遮罩图像，生成保留图像；基于所述无印章预测图像和所述保留图像，确定目标图像。