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一种铜箔及其制备方法

申请号: CN202311330238.6
申请人: 瑞浦兰钧能源股份有限公司; 上海瑞浦青创新能源有限公司
申请日期: 2023/10/16

摘要文本

本发明公开了一种铜箔及其制备方法,所述铜箔本体;所述铜箔本体沿其厚度方向至少一侧的表面设置有氧化铜层;在氧化铜层远离所述铜箔本体的一侧的表面上设置有氟化物涂层;在氟化物涂层远离所述氧化铜层的一侧的表面上设置有硅氧化物涂层;所述铜箔的制备方法包括如下:步骤1、铜箔本体沿其厚度方向至少一侧的表面经过氧化处理形成氧化铜层;步骤2、在氧化铜层远离所述铜箔的一侧的表面上制备得到氟化物涂层;步骤3、在氟化物涂层远离所述氧化铜层的一侧的表面上制备得到硅氧化物涂层。本发明通过使用氟化物溶液和硅氧化物溶液对铜箔表面进行处理,提高铜箔的电化学稳定性和抗腐蚀性能,从而提高电池的性能。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种铜箔及其制备方法
专利类型 发明授权
申请号 CN202311330238.6
申请日 2023/10/16
公告号 CN117070945B
公开日 2024/2/6
IPC主分类号 C23C28/04
权利人 瑞浦兰钧能源股份有限公司; 上海瑞浦青创新能源有限公司
发明人 邵学祥; 李婷婷; 刘婵; 侯敏; 曹辉
地址 浙江省温州市龙湾区空港新区滨海六路205号C幢A205室; 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区金海路1255号4幢1层B105室

专利主权项内容

1.一种铜箔,其特征在于,包括铜箔本体;所述铜箔本体沿其厚度方向至少一侧的表面设置有氧化铜层;在氧化铜层远离所述铜箔本体的一侧的表面上设置有氟化物涂层;在氟化物涂层远离所述氧化铜层的一侧的表面上设置有硅氧化物涂层;所述氟化物涂层的厚度为0.1-0.3μm;所述硅氧化物涂层的厚度为0.3-0.8μm;所述氟化物涂层的材质包括氟化胺、氟化锂、氟化钠、氟化铜、氟铝酸锂、全氟磺酸锂、氟化硼酸锂中的至少一种;所述硅氧化物涂层的材质包括硅酸钠、甲基三乙氧基硅烷、正硅酸乙酯、乙二醇基三甲基硅烷中的至少一种;所述氧化铜层表面上的氟化物含量在0.05-0.1g/m之间;所述氟化物涂层表面上的硅氧化物含量在0.05-0.3g/m之间。22