一种面向半导体制造的喷墨型纳米压印胶及其制备方法

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本发明公开了一种面向半导体制造的喷墨型纳米压印胶，由功能齐聚物、功能单体、光引发剂和稀释剂组成；所述喷墨型纳米压印胶的粘度范围为5~50 cP；所述喷墨型纳米压印胶的表面能为25~45mN/m；所述喷墨型纳米压印胶的洁净度为220nm以下杂质的含量小于1ppm；所述述喷墨型纳米压印胶的固化时间小于等于1min。通过加入稀释剂来调节纳米压印胶的粘度，使得粘度范围在5~50 cP内；通过功能齐聚物和功能单体配合改变表面能，表面能低则多引入功能单体，功能单体与功能齐聚物具有优异的相容性，而且功能单体中含有极性的官能团羟基、羧基等；表面能高则通过芳香环和长的碳链配合来降低表面能；得到表面能在25~45mN/m，控制低粘度和适合的表面能，使得本发明的纳米压印胶可以用于喷墨。