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一种穿戴护具建模方法、系统、电子设备及可读存储介质

申请号: CN202311506574.1
申请人: 香港纺织及成衣研发中心有限公司
申请日期: 2023/11/13

摘要文本

本申请公开了一种穿戴护具建模方法、系统、电子设备及可读存储介质,其中的穿戴护具建模方法通过对穿戴者的使用部位三维扫描并建模生成晶格化护具模型,对晶格化护具模型进行多孔化,根据晶格在建模空间中所处的位置将其分为表面晶格、边缘晶格和内部晶格,予以分别填充第一多孔结构、第二多孔结构和第三多孔结构,得到具有光滑曲面的多孔化护具模型,多孔化护具模型可直接用于护具的生产制造。通过本申请提供的建模方法生成的多孔化护具模型,具有高孔隙率和高比强度的优点,兼具力学性能和透气性能,而且多孔化后的护具模型形成光滑曲面,使得依此制造的穿戴护具同样具有光滑曲面,提高穿戴舒适度和贴合度,此外还能实现轻量级设计。。来源:马 克 数 据 网

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种穿戴护具建模方法、系统、电子设备及可读存储介质
专利类型 发明申请
申请号 CN202311506574.1
申请日 2023/11/13
公告号 CN117494245A
公开日 2024/2/2
IPC主分类号 G06F30/10
权利人 香港纺织及成衣研发中心有限公司
发明人 宋旭; 丁俊豪; 莫浩明; 杨怿健
地址 中国香港九龙红磡香港理工大学陈鲍雪莹楼906-08房间

专利主权项内容

1.一种穿戴护具建模方法,其特征在于,包括:对使用者的穿戴部位进行三维扫描获取扫描数据;根据所述扫描数据构建由晶格组成的晶格化护具模型;获取所述晶格化护具模型中晶格的平面数组,根据所述晶格的平面数组确定表面晶格、边缘晶格和内部晶格,其中,所述平面数组表示构成晶格的平面的相对位置关系,所述表面晶格构成所述晶格化护具模型表面的非边缘区域,所述边缘晶格构成所述晶格化护具模型表面的边缘区域,所述内部晶格构成所述晶格化护具模型的内部结构;对所述表面晶格、边缘晶格和内部晶格分别填充第一多孔结构、第二多孔结构和第三多孔结构,得到具有光滑曲面的多孔化护具模型。