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基于涡旋分量排序的暗场共焦显微测量装置及方法

申请号: CN202311425900.6
申请人: 哈尔滨工业大学
申请日期: 2023/10/31

摘要文本

基于涡旋分量排序的暗场共焦显微测量装置及方法,它涉及一种暗场共焦显微测量装置及方法。本发明为了解决传统共焦显微测量的亚表面缺陷无损检测技术检测维度单一,无法实现缺陷的复杂几何特性表征及物理特性分析,亚表面缺陷判定准确率不足的问题。本发明所述测量装置包括高斯照明模块、涡旋排序模块、线阵探测模块和三维位移台;待测样品设置在三维位移台上,所述高斯照明模块发射的激光照射在待测样品上,待测样品的反射光经由所述高斯照明模块和所述涡旋排序模块后由所述线阵探测模块接收。本发明属于光学精密测量技术领域。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 基于涡旋分量排序的暗场共焦显微测量装置及方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311425900.6
申请日 2023/10/31
公告号 CN117517318A
公开日 2024/2/6
IPC主分类号 G01N21/88
权利人 哈尔滨工业大学
发明人 刘俭; 刘辰光; 华子杰
地址 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

专利主权项内容

1.基于涡旋分量排序的暗场共焦显微测量装置,其特征在于:所述基于涡旋分量排序的暗场共焦显微测量装置包括高斯照明模块、涡旋排序模块、线阵探测模块和三维位移台(9);待测样品(8)设置在三维位移台(9)上,所述高斯照明模块发射的激光照射在待测样品(8)上,待测样品(8)的反射光经由所述高斯照明模块和所述涡旋排序模块后由所述线阵探测模块接收。