一种等离子体侵蚀痕量产物在线监测装置及方法

专利主权项内容

1.一种等离子体侵蚀痕量产物在线监测装置，其特征在于，包括金属屏蔽罩，以及设置于所述金属屏蔽罩内部的第一凸透镜、第一反射镜、分光棱镜、第二凸透镜、光栅以及第二反射镜，以及设置于所述金属屏蔽罩外部的光电倍增管和分析处理设备；所述金属屏蔽罩侧壁上固定有入射光狭缝和出射光狭缝，所述出射光狭缝与所述光电倍增管连接，所述光电倍增管与所述分析处理设备连接；所述入射光狭缝收集到的等离子体辐射光依次经过所述第一凸透镜、所述第一反射镜、所述分光棱镜、所述第二凸透镜、所述光栅以及所述第二反射镜，并经所述出射光狭缝入射至所述光电倍增管，所述光电倍增管将获取到的实验光强信息传输至所述分析处理设备；所述分析处理设备包括如下模块：光强采集模块，用于采集痕量产物波长范围内的实验光强信息；波动误差计算模块，用于基于所述实验光强计算实验光强波动导致的波动误差；关系建立模块，用于建立理论光强与所述实验光强的关系；痕量产物密度计算模块，用于基于所述波动误差以及所述理论光强与所述实验光强的关系，计算痕量产物的密度；其中，所述理论光强通过如下公式表示：Imodel=ε×n×n×Q；eii其中，ε为入射光狭缝接收到等离子体辐射的光比例，n为电子密度，n为痕量产物密度，Q为激发速率系数，Imodel表示理论上痕量产物发光的强度，即理论光强。eii