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一种MIL-53-丙烯酸酯复合物及负性光刻胶和制备方法
摘要文本
本发明涉及半导体芯片及化工领域，具体涉及一种MIL‑53‑丙烯酸酯复合物及负性光刻胶和制备方法。该复合物通过如下方法制备：将MIL‑53和丙烯酸酯类单体以重量比1：1‑10的比例，在氮气保护下加入溶剂中，200‑1000rpm搅拌，高温密闭反应36‑48h，过滤后真空干燥即得。所述的负性光刻胶组合物包括如下组分：环氧树脂，MIL‑53‑丙烯酸酯复合物，染料，光引发剂，流平剂以及溶剂；可改善树脂分子链纠缠杂乱问题，提高边缘垂直度和分辨率，同时可以具有识别、鉴定、条形码锚定潜力。 关注公众号
申请人信息
- 申请人:上海艾深斯科技有限公司
- 申请人地址:201602 上海市松江区佘山镇吉业路399号1幢、2幢、4幢、5幢
- 发明人: 上海艾深斯科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种MIL-53-丙烯酸酯复合物及负性光刻胶和制备方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410251271.8 |
| 申请日 | 2024/3/6 |
| 公告号 | CN117826533A |
| 公开日 | 2024/4/5 |
| IPC主分类号 | G03F7/004 |
| 权利人 | 上海艾深斯科技有限公司 |
| 发明人 | 张月红; 冯芳华 |
| 地址 | 上海市松江区佘山镇吉业路399号1幢、2幢、4幢、5幢 |
专利主权项内容
来自马-克-数-据 1.一种MIL-53-丙烯酸酯复合物，其特征在于， MIL-53-丙烯酸酯复合物通过如下方法制备：将MIL-53和丙烯酸酯类单体以重量比1：1-10的比例，在氮气保护下加入溶剂中，200-1000rpm搅拌，高温密闭反应36-48h，过滤后真空干燥即得；其中，溶剂为二丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇苯醚醋酸酯，乙酸乙二醇乙醚中的一种或多种；所述复合物的红外光谱显示如下特征峰：(C=O)1654cm, Cr-o 765 cm, c-c 1370 cm, o-o 1567 cm。-1-1-1-1