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一种多光谱光学关键尺寸的获取方法、设备及介质
摘要文本
本发明公开一种多光谱光学关键尺寸的获取方法、设备及介质,首先获取光谱数据,然后将多份光谱数据输入至分析模块中进行回归分析,得到各个光谱数据对应的光学关键尺寸,其中回归分析包括:启动多进程计算,其中进程数小于或等于所述光谱数据的份数,然后将多份光谱数据分配给各个进程,其中每个进程接收至少一份光谱数据并进行任务绑定,各个进程分别开启多线程,对接收到的多份光谱数据依次进行单光谱回归分析。通过多层并行计算,可在算力允许的范围内尽可能缩短多光谱回归分析的计算时间,提高软件性能,降低应用成本。
申请人信息
- 申请人:上海诺睿科半导体设备有限公司
- 申请人地址:201203 上海市浦东新区自由贸易试验区盛夏路570号1幢409室
- 发明人: 上海诺睿科半导体设备有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种多光谱光学关键尺寸的获取方法、设备及介质 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410187283.9 |
| 申请日 | 2024/2/20 |
| 公告号 | CN117744035A |
| 公开日 | 2024/3/22 |
| IPC主分类号 | G06F18/27 |
| 权利人 | 上海诺睿科半导体设备有限公司 |
| 发明人 | 陈思元; 赵礼; 叶俊杰 |
| 地址 | 上海市浦东新区自由贸易试验区盛夏路570号1幢409室 |
专利主权项内容
1.一种多光谱光学关键尺寸的获取方法,其特征在于,包括步骤:对回归模型进行预训练,以优化模型参数,其中所述模型参数包括:线性/非线性回归模型的超参数、理论光谱与实际光谱拟合优度的收敛标准、最大迭代次数、以及光学关键尺寸的各维度范围;获取光谱数据;以及,将多份光谱数据输入至分析模块中进行回归分析,得到各个光谱数据对应的光学关键尺寸,其中所述回归分析包括:启动多进程计算,其中进程数小于或等于所述光谱数据的份数;将所述多份光谱数据分配给各个进程,其中每个进程接收至少一份光谱数据并进行任务绑定;以及,所述各个进程分别开启多线程,对接收到的多份光谱数据依次进行单光谱回归分析,其中所述单光谱回归分析包括将光谱数据输入回归模型,进行多步迭代后得到关键光学尺寸,以及开启多线程包括将单光谱回归分析中的矩阵计算拆分为多个子矩阵计算,将各个子矩阵计算分配至各线程执行计算,和/或将所述单光谱分析中的循环任务拆分为多个子循环,将各个子循环分配至各线程执行计算。