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一种光罩排程及提前调度算法、设备及介质
摘要文本
本申请提供了一种光罩排程及提前调度算法、设备及介质，包括：配置光罩的平均搬运作业时间；计算距离下次检查光罩的剩余时间和剩余晶圆加工数量；获取每个光罩的生产作业计划；按时遍历光罩的目标晶圆加工批次并生成搬运调度任务；检测相邻晶圆加工批次的时间间隔及加工地点；对光罩所加工的晶圆数量进行累积；汇总所有光罩检查任务，同时创建光照检查调度任务。当系统执行时间到达光照调度任务表中的激活时间后，由光罩搬运系统创建光罩搬运调度指令，分配执行搬运任务。可以至少用以解决当光罩达到检查条件后，光罩不能继续执行光刻生产任务，需要进行缺陷检查的技术问题。。来自：马 克 团 队
申请人信息
- 申请人:上海朋熙半导体有限公司
- 申请人地址:201208 上海市浦东新区涵桥路619号金鼎天地C栋15-17楼
- 发明人: 上海朋熙半导体有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种光罩排程及提前调度算法、设备及介质 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410039787.6 |
| 申请日 | 2024/1/11 |
| 公告号 | CN117557072A |
| 公开日 | 2024/2/13 |
| IPC主分类号 | G06Q10/0631 |
| 权利人 | 上海朋熙半导体有限公司 |
| 发明人 | 史圣镐 |
| 地址 | 上海市浦东新区涵桥路619号金鼎天地C栋15-17楼 |
专利主权项内容
1.一种光罩排程及提前调度算法，其特征在于，包括：配置光罩进行搬运作业的平均作业时间；分别计算距离集成掩模检测系统和掩模版缺陷扫描系统下次检查光罩的剩余时间和剩余晶圆加工数量；根据光刻机排产调度结果获取每个光罩的生产作业计划；按时间顺序遍历光罩的未来晶圆加工批次和加工位置，并根据遍历结果生成搬运调度任务；检测前后两个晶圆加工批次之间的时间间隔及加工地点；在遍历光罩的所有光刻作业任务时，集成掩模检测系统和掩模版缺陷扫描系统分别对光罩所加工的晶圆数量进行累积；汇总所有光罩检查任务，输出每个光罩检查任务的检查机台和检查开始时间，同时创建光罩检查调度任务；当系统执行时间到达光照调度任务表中的激活时间后，由光罩搬运系统创建光罩搬运调度指令，分配执行搬运任务。