一种非晶硅光波导的制作方法及非晶硅光波导

专利主权项内容

1.一种非晶硅光波导的制作方法，其特征在于，采用微米级光刻机和干法刻蚀产生深亚微米高度的介质台阶，并采用深亚微米厚度的非晶硅沉积和无掩模干法回刻蚀，获得深亚微米宽度的非晶硅光波导；包括以下步骤：S1，准备衬底晶圆；S2，沉积第一介质层作为非晶硅光波导的下包层；S3，采用光刻和干法刻蚀第一介质层形成台阶；S4，沉积非晶硅层作为非晶硅光波导的芯层；S5，回刻蚀非晶硅层形成非晶硅光波导的芯核；S6，沉积第二介质层作为非晶硅光波导的上包层；S7，抛光第二介质层至表面平整。