一种硬掩模保护的硅光波导表面氧化平滑方法

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本发明提供了一种硬掩模保护的硅光波导表面氧化平滑方法，包括：步骤1、提供一SOI衬底，所述SOI衬底包括自下而上的硅衬底、埋氧层和顶层硅；步骤2、在所述顶层硅表面依次形成第一氧化硅层和硬掩模层；步骤3、光刻和干法刻蚀所述顶层硅形成硅光波导；步骤4、在硬掩模层保护下对硅光波导进行氧化生成第二氧化硅层；步骤5、依次去除第二氧化硅层、硬掩模层和第一氧化硅层；步骤6、沉积第三氧化硅层；步骤7、将第三氧化硅层抛光至表面平整。本发明避免了硅光波导高度方向上的氧化平滑损耗，解决了硅光波导的边角圆化问题，所采用的结构和工艺简单，成本增加少。