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一种化学气相沉积设备
摘要文本
本发明提供一种化学气相沉积设备，在反应腔体的顶部设置加热进气装置，加热进气装置向各载片装置的载片区上方提供热气体，该热气体辅助加热由工艺进气装置喷出的层流，从而降低载片区中基板的上下表面温差并抑制反应腔体的顶板沉积物的形成。另外，上述热气体还能够抑制层流的工艺气体向远离基板的方向扩散，使其集中到基板表面附近，以利于提高基板表面成膜。
申请人信息
- 申请人:楚赟精工科技(上海)有限公司
- 申请人地址:201210 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路665号三层
- 发明人: 楚赟精工科技(上海)有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种化学气相沉积设备 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410089085.9 |
| 申请日 | 2024/1/23 |
| 公告号 | CN117604494A |
| 公开日 | 2024/2/27 |
| IPC主分类号 | C23C16/44 |
| 权利人 | 楚赟精工科技(上海)有限公司 |
| 发明人 | 巩前程 |
| 地址 | 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路665号三层 |
专利主权项内容
1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括：工艺腔体；载片装置，设置于所述工艺腔体内，顶面朝向所述工艺腔体顶部并设置有围绕所述载片装置中部的若干载片区，底部设有下加热装置以加热所述载片区；工艺进气装置，贯穿所述工艺腔体顶面并延伸至所述载片装置中部上方以提供工艺气体；导流部，设置在所述工艺进气装置底部以引导所述工艺气体形成流经各所述载片区的层流；加热进气装置，围绕所述工艺进气装置设于所述工艺腔体顶部，并配置为向所述载片区上方提供热气体以辅助加热并稳定所述层流，所述热气体与所述工艺气体之间化学惰性。