← 返回列表
一种气相沉积设备
摘要文本
本发明提供了一种气相沉积设备，包括反应腔；气体注入机构位于反应腔的顶部；承载盘位于反应腔中，在所述承载盘上方形成一反应区；旋转轴与承载盘连接；遮挡件位于反应腔中，环绕反应腔的内侧壁设置，遮挡件包括一靠近反应区一侧的隔离壁，隔离壁与气体注入机构适配地围设成一个空间区域，空间区域覆盖反应区，空间区域的径向尺寸由上至下逐渐增大，遮挡件的最下端的外径与反应腔的内径相适配；吹扫通道，分布设于隔离壁上，吹扫通道贯穿所述隔离壁并与空间区域导通，以向空间区域导入吹扫气体。本发明提供的气相沉积设备可以提高设备生长材料的产出效率和质量，延长反应腔的维护周期。
申请人信息
- 申请人:楚赟精工科技(上海)有限公司
- 申请人地址:201210 上海市浦东新区张江路665号三层
- 发明人: 楚赟精工科技(上海)有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种气相沉积设备 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410096477.8 |
| 申请日 | 2024/1/24 |
| 公告号 | CN117604495A |
| 公开日 | 2024/2/27 |
| IPC主分类号 | C23C16/44 |
| 权利人 | 楚赟精工科技(上海)有限公司 |
| 发明人 | 邢志刚; 刘雷; 张志明 |
| 地址 | 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路665号三层 |
专利主权项内容
1.一种气相沉积设备，其特征在于，包括：反应腔；气体注入机构，位于所述反应腔的顶部；承载盘，位于所述反应腔中，与所述气体注入机构相对设置，在所述承载盘上方形成一反应区；旋转轴，与所述承载盘连接，带动所述承载盘在气相沉积期间旋转；遮挡件，位于所述反应腔中，环绕所述反应腔的内侧壁设置，所述遮挡件包括一靠近反应区一侧的隔离壁，所述隔离壁与所述气体注入机构适配地围设成一个空间区域，所述空间区域覆盖所述反应区，所述空间区域的径向尺寸由上至下逐渐增大，所述遮挡件的最下端的外径与所述反应腔的内径相适配；吹扫通道，分布设于所述隔离壁上，所述吹扫通道贯穿所述隔离壁并与所述空间区域导通，以向所述空间区域导入吹扫气体。