离子过滤装置及半导体加工设备

专利主权项内容

1.一种离子过滤装置，用于在反应腔室中阻隔进气中的离子到达载置台所在区域，其特征在于，包括沿预设方向相对设置的上离子过滤板与下离子过滤板，所述上离子过滤板的边缘处与所述下离子过滤板的边缘处连接，并在所述上离子过滤板与所述下离子过滤板之间形成空腔；所述下离子过滤板均匀设置有多个贯穿所述下离子过滤板的下离子过滤通道，每个所述下离子过滤通道的一端连通所述空腔，每个所述下离子过滤通道的另一端用于朝向所述载置台所在平面；所述上离子过滤板与所述下离子过滤板的连接处设置有多个进气孔，每个所述进气孔的一端朝向所述预设方向的垂直方向设置、用于连接工艺气体气源，每个所述进气孔的另一端与所述空腔连通；所述空腔中设置有环绕所述下离子过滤板的中心设置的多个隔挡板，每个所述隔挡板在所述下离子过滤板上的投影避开所述下离子过滤通道，多个所述隔挡板分布在不同的所述进气孔内工艺气体在所述空腔内的流动路径上、用于使多个所述进气孔内通入的工艺气体在所述空腔中均匀扩散至所述上离子过滤板表面。