限制环及其应用的等离子体处理装置和控制方法

摘要文本

本公开实施例中提供限制环及其应用的等离子体处理装置和控制方法；所述限制环包括：环形本体，设有穿设孔；珀耳帖效应部件，设于所述环形本体。在被施加相反电流时，所述珀耳帖效应部件的一暴露表面形成吸热面或发热面；其中，所述吸热面用于趋冷性的颗粒的吸附；所述发热面形成所述颗粒的释放。故，由于限制环设置所述珀耳帖效应部件，具备吸附或释放颗粒的功能，以能有效降低反应腔中的颗粒污染，便于后续预防保养实施。