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一种应用于半导体生产用的臭氧发生器
摘要文本
本发明公开了一种应用于半导体生产用的臭氧发生器，包括机体，所述机体的一侧安装有气体过滤组件，所述气体过滤组件包括进风过滤管，所述进风过滤管的一侧顶部设置有进风口，所述进风过滤管的内侧安装有除尘内筒，所述除尘内筒上安装有除尘活性炭滤芯，所述进风过滤管的另一侧安装有进气扰流管，所述进气扰流管贯穿进风过滤管设置在除尘内筒上；通过设置的该带有气体过滤组件的结构，当使用该装置制取臭氧时，可将气体通过过滤组件，从而将气体中的杂质与异味进行过滤，避免气体中含有杂质进入设备内部，提高臭氧的制取纯度，并且清洁后的灰尘方便收集与排出，增加了该结构的使用寿命，降低了生产成本，提高了该装置的实用性与便捷性。 关注公众号
申请人信息
- 申请人:九未实业(上海)有限公司
- 申请人地址:201712 上海市青浦区香花桥街道胜利路1680号21幢3-4
- 发明人: 九未实业(上海)有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种应用于半导体生产用的臭氧发生器 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410009504.3 |
| 申请日 | 2024/1/4 |
| 公告号 | CN117550558A |
| 公开日 | 2024/2/13 |
| IPC主分类号 | C01B13/11 |
| 权利人 | 九未实业(上海)有限公司 |
| 发明人 | 汪宇澄; 汪雨; 汪小龙; 徐建 |
| 地址 | 上海市青浦区香花桥街道胜利路1680号21幢3-4 |
专利主权项内容
1.一种应用于半导体生产用的臭氧发生器，包括机体(100)，所述机体(100)的一侧安装有气体过滤组件，其特征在于：所述气体过滤组件包括进风过滤管(200)，所述进风过滤管(200)的一侧顶部设置有进风口(211)，所述进风过滤管(200)的内侧安装有除尘内筒(205)，所述除尘内筒(205)上安装有除尘活性炭滤芯(204)，所述进风过滤管(200)的另一侧安装有进气扰流管(300)，所述进气扰流管(300)贯穿进风过滤管(200)设置在除尘内筒(205)上，所述气体过滤组件用于过滤通过进风过滤管(200)内部的气体。