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一种填埋场膜下水处理系统

申请号: CN202410050715.1
申请人: 中国电建集团昆明勘测设计研究院有限公司
申请日期: 2024/1/12

摘要文本

本发明涉及污水处理技术领域,尤其涉及一种填埋场膜下水处理系统。其技术方案包括:膜反应器,包括下反应器、下曝气管、上反应器和上曝气管,所述下反应器的底部与池体的膜处理池固定连接,所述下反应器的侧壁与下曝气管固定连接,所述下反应器的顶部中心处固定安装上反应器,所述上曝气管固定安装在下反应器的顶部固定且围绕在上反应器的四周,所述下反应器与上反应器的内部均设置有过滤膜。本发明通过下曝气管和上曝气管进行分层曝气,补充不同水层的曝气量,避免曝气后的气体不断上升并四处扩散,导致颗粒所受浮力降低,无法将颗粒浮在水面进行分离,在曝气量不足出现颗粒下沉时及时补充曝气,避免颗粒下沉。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种填埋场膜下水处理系统
专利类型 发明申请
申请号 CN202410050715.1
申请日 2024/1/12
公告号 CN117756345A
公开日 2024/3/26
IPC主分类号 C02F9/00
权利人 中国电建集团昆明勘测设计研究院有限公司
发明人 冯冬梅; 张燕春; 刘胜; 李毓; 年正
地址 云南省昆明市盘龙区人民东路115号办公楼

专利主权项内容

1.一种填埋场膜下水处理系统,其特征在于,包括:池体(1),所述池体(1)的内壁固定安装有两个分隔板(2),两个所述分隔板(2)将池体(1)分割为多个区域,从左到右依次为缺氧池、厌氧池、好氧池和膜处理池;膜反应器(5)包括下反应器(51)、下曝气管(52)、上反应器(53)和上曝气管(54),所述下反应器(51)的底部与池体(1)的膜处理池固定连接,所述下反应器(51)的侧壁与下曝气管(52)固定连接,所述下反应器(51)的顶部中心处固定安装上反应器(53),所述上曝气管(54)固定安装在下反应器(51)的顶部固定且围绕在上反应器(53)的四周,所述下反应器(51)与上反应器(53)的内部均设置有过滤膜(55);所述上反应器(53)包括壳体(531)、承托板(533)、滑块(535)、限位块(538),所述壳体(531)的底部与下反应器(51)固定连接,所述壳体(531)的侧壁与承托板(533)滑动连接,所述承托板(533)的侧部与滑块(535)固定连接,所述滑块(535)的两侧均卡接限位块(538);刮除件(7),所述压板(71)和触点开关(72),所述压板(71)的顶部固定安装触点开关(72),所述触点开关(72)位于滑块(535)的正下方,所述触点开关(72)与上曝气管(54)电连接。