一种掩模结构及掩模结构制备方法

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本发明涉及光刻曝光光学元件技术领域，公开了一种掩模结构及掩模结构制备方法，其中，掩模结构包括透光组件和阻挡层，阻挡层位于透光组件的一侧表面，阻挡层内具有多个第一通孔，多个第一通孔间隔分布在阻挡层内，多个第一通孔的形状和分布位置记录目标图案的生成信息；透光组件对目标光束的透射率大于80%，阻挡层为吸光材料，目标光束透过透光组件、穿过各个第一通孔后传输至目标层上，目标光束穿过任意一个第一通孔均发生衍射以形成衍射光束，各个衍射光束传输至目标层上干涉叠加以形成目标图案。通过该掩模结构形成目标图案时，无需经过反射，且无需配备防护罩，避免了以目标光束连续曝光导致的反射率和图案分辨率下降的影响。