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一种图形化方法

申请号: CN202410252484.2
申请人: 赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司
申请日期: 2024/3/6

摘要文本

本申请的实施例提供了一种图形化方法,所述方法包括:提供衬底基板,所述衬底基板的表面设置有标识字符;在所述衬底基板的表面涂覆负性光刻胶,形成光刻胶层;对形成有所述光刻胶层的衬底基板的边缘进行光刻胶冲洗;在光刻胶冲洗后,对所述光刻胶层中设定区域的负性光刻胶进行曝光处理,所述设定区域包含所述光刻胶层中覆盖所述标识字符的区域;在曝光处理后,对所述衬底基板进行图形化工艺,以在所述衬底基板的表面形成所需的膜层图案。本申请的实施例提供的技术方案能保证具有标识字符的衬底基板在经历图形化工艺后,该标识字符仍然清晰可见,进而提升对该标识字符的识别效率。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种图形化方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410252484.2
申请日 2024/3/6
公告号 CN117832066A
公开日 2024/4/5
IPC主分类号 H01L21/027
权利人 赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司
发明人 王飞飞; 杨志政; 徐宝盈; 李健飞; 祁富荣
地址 北京市大兴区北京经济技术开发区科创十四街99号33幢D栋二层2208号(集中办公区)

专利主权项内容

1.一种图形化方法,其特征在于,所述方法包括:提供衬底基板,所述衬底基板的表面设置有标识字符;在所述衬底基板的表面涂覆负性光刻胶,形成光刻胶层;对形成有所述光刻胶层的衬底基板的边缘进行光刻胶冲洗;在光刻胶冲洗后,对所述光刻胶层中设定区域的负性光刻胶进行曝光处理,所述设定区域包含所述光刻胶层中覆盖所述标识字符的区域;在曝光处理后,对所述衬底基板进行图形化工艺,以在所述衬底基板的表面形成所需的膜层图案。