一种光化学降解药厂污染性气体的装置及其使用方法
摘要文本
本发明涉及光化学降解技术领域，更具体的公开了一种光化学降解药厂污染性气体的装置及其使用方法，包括外壳组件，所述外壳组件包括装置外壳，装置外壳的内部从上至下依次开设有进气腔、反应腔、吸附腔与循环腔，装置外壳的顶部安装有端盖，端盖的底部安装有伸缩组件，端盖的顶部开设有进气口，所述进气腔内部位于伸缩组件的底部安装有隔离清洁架；本发明通过设有清洁刮板，有利于在密封板下降时清洁刮板会将二氧化钛环内壁表面形成的水珠进行清理，形成被动清理，在反应结束后伸缩组件控制密封板下降与上升移动的过程中，清洁刮板对二氧化钛环的内壁进行主动清理，使得的内壁始终保持较高的光洁度，具有较高的反应催化作用。。
申请人信息
- 申请人:北京市燕京药业有限公司
- 申请人地址:102629 北京市大兴区中关村科技园区大兴生物医药产业基地永大路38号6幢4层410室
- 发明人: 北京市燕京药业有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种光化学降解药厂污染性气体的装置及其使用方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410196725.6 |
| 申请日 | 2024/2/22 |
| 公告号 | CN117797638A |
| 公开日 | 2024/4/2 |
| IPC主分类号 | B01D53/86 |
| 权利人 | 北京市燕京药业有限公司 |
| 发明人 | 吴忠宝 |
| 地址 | 北京市大兴区中关村科技园区大兴生物医药产业基地永大路38号6幢4层410室 |
专利主权项内容
1.一种光化学降解药厂污染性气体的装置，包括外壳组件(1)，其特征在于：所述外壳组件(1)包括装置外壳(101)，装置外壳(101)的内部从上至下依次开设有进气腔(102)、反应腔(103)、吸附腔(108)与循环腔(109)，装置外壳(101)的顶部安装有端盖，端盖的底部安装有伸缩组件(2)，端盖的顶部开设有进气口(112)，所述进气腔(102)内部位于伸缩组件(2)的底部安装有隔离清洁架(3)，所述反应腔(103)的内壁安装有二氧化钛环(6)，反应腔(103)内部位于二氧化钛环(6)的底部开设有支撑槽(105)，支撑槽(105)的内部安装有灯固定架(4)，所述灯固定架(4)的顶部安装有LED灯(5)，所述装置外壳(101)内部位于反应腔(103)底部开设有锥形孔，锥形孔的底部开设有过滤槽(106)，过滤槽(106)的内部安装有过滤板(7)，锥形孔的侧面开设有出气口(113)，吸附腔(108)的底部开设有单向滤套(107)，单向滤套(107)的内部安装有单向气组件(8)，所述循环腔(109)的底部开设有传动孔(111)，循环腔(109)的侧面开设有多个循环下孔(110)，循环下孔(110)的外侧安装有循环气管(12)，所述循环气管(12)的两端分别安装在循环上孔(104)与循环下孔(110)上，所述循环腔(109)的内部安装有传动组件(9)，传动组件(9)包括第一电机(901)与扇叶(902)，扇叶(902)的启停由控制模块进行控制。