边缘进气装置、半导体工艺腔室及半导体工艺设备

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本发明提供一种边缘进气装置、半导体工艺腔室及半导体工艺设备，该装置包括旋转进气组件，呈环状，旋转进气组件能够围绕自身轴线旋转；固定进气组件，呈环状，设置在旋转进气组件外侧，位于旋转进气组件的外周的第一对接面与位于固定进气组件的内周的第二对接面可相对旋转地对接，旋转进气组件中设置有第一进气通道，第一进气通道在第一对接面设置有第一进气口，且沿旋转进气组件的内周设置有多个第一出气口；固定进气组件中设置有第二进气通道，第二进气通道在第二对接面设置有第二出气口，第一进气口与第二出气口相连通。本方案可以提高通入半导体工艺腔室中的气体分布均匀性，从而可以提高工艺均匀性。