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一种高性能TZM合金箔材及其制备方法

申请号: CN202410155403.7
申请人: 有研工程技术研究院有限公司
申请日期: 2024/2/4

摘要文本

一种高性能TZM合金箔材,其厚度为0.005~0.15mm,尺寸偏差±2μm;抗拉强度≥1400MPa,屈服强度≥1200MPa,延伸率≥5%;氧含量≤30ppm、氮含量≤20ppm,显微组织特征包括细长晶粒呈相互搭接交错的层状纤维结构,纤维宽长比1%~20%,细小均匀弥散的微米及纳米级第二相体积分数0.1%~2%;其制法是高纯度钼粉经过除气净化,与微米级氢化钛或碳化钛、氢化锆或碳化锆及石墨粉进行球磨混合,经合金压坯制备、复合烧结,再经真空自耗电弧熔炼、大变形量挤压开坯、交叉热轧,交叉温轧、氢气退火、交叉冷轧,最后去应力退火;所制备的TZM合金箔材,可广泛用于电真空、电子及医疗领域。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种高性能TZM合金箔材及其制备方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410155403.7
申请日 2024/2/4
公告号 CN117684033A
公开日 2024/3/12
IPC主分类号 C22C1/02
权利人 有研工程技术研究院有限公司
发明人 周增林; 陈文帅; 李艳; 何学良
地址 北京市怀柔区雁栖经济开发区兴科东大街11号

专利主权项内容

1.一种高性能的TZM合金箔材,其特征在于:所述的TZM合金箔材厚度为0.005~0.15mm,尺寸公差±2μm;抗拉强度≥1400MPa,屈服强度≥1200MPa,延伸率≥5%;氧含量≤30ppm、N含量≤20ppm,显微组织特征包括细长晶粒呈相互搭接交错的层状纤维结构,纤维宽长比1%~20%,细小均匀弥散的微米及纳米级第二相体积分数0.1%~2%。。来自马-克-数-据-官网