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基于埋入式硅基的大阵列APD基板及制备方法、功能芯片

申请号: CN202410190425.7
申请人: 北京大学
申请日期: 2024/2/21

摘要文本

本申请提供一种基于埋入式硅基的大阵列APD基板及制备方法、功能芯片,涉及电子制造领域,包括:提供晶圆基底;对晶圆基底的第一侧进行刻蚀处理,在晶圆基底的第一侧形成第一数量的填埋槽;将多个APD单元填入多个填埋槽的中心区域内,以使APD单元与填埋槽的槽底键合,APD单元为APD芯片阵列或APD芯片,APD芯片阵列包含阵列排布的多个APD芯片;对晶圆基底的第一侧进行表面钝化处理,得到大阵列APD基板。本申请通过在晶圆基底上形成填埋槽,并将数量较少APD芯片阵列或APD芯片填充在填埋槽内构成大阵列APD基板,该制备方法在保证较高良率的同时,简化生成工艺流程,降低成本,实现高密度、大规模、高性能的大阵列APD基板的制备。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 基于埋入式硅基的大阵列APD基板及制备方法、功能芯片
专利类型 发明申请
申请号 CN202410190425.7
申请日 2024/2/21
公告号 CN117747601A
公开日 2024/3/22
IPC主分类号 H01L25/04
权利人 北京大学
发明人 陈浪; 王玮; 张盼; 徐涵
地址 北京市海淀区颐和园路5号

专利主权项内容

1.一种基于埋入式硅基的大阵列APD基板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:提供晶圆基底;对所述晶圆基底的第一侧进行刻蚀处理,在所述晶圆基底的所述第一侧形成第一数量的填埋槽,所述填埋槽包括中心区域,以及位于所述中心区域与所述填埋槽内壁之间的第一间隙;将多个APD单元填入多个所述填埋槽的所述中心区域内,以使所述APD单元与所述填埋槽的槽底键合,其中,所述填埋槽与所述APD单元一一对应,所述APD单元为APD芯片阵列或APD芯片,所述APD芯片阵列包含阵列排布的多个APD芯片;对所述晶圆基底的所述第一侧进行表面钝化处理,得到所述大阵列APD基板。