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基于埋入式硅基的大阵列APD基板及制备方法、功能芯片
摘要文本
本申请提供一种基于埋入式硅基的大阵列APD基板及制备方法、功能芯片,涉及电子制造领域,包括:提供晶圆基底;对晶圆基底的第一侧进行刻蚀处理,在晶圆基底的第一侧形成第一数量的填埋槽;将多个APD单元填入多个填埋槽的中心区域内,以使APD单元与填埋槽的槽底键合,APD单元为APD芯片阵列或APD芯片,APD芯片阵列包含阵列排布的多个APD芯片;对晶圆基底的第一侧进行表面钝化处理,得到大阵列APD基板。本申请通过在晶圆基底上形成填埋槽,并将数量较少APD芯片阵列或APD芯片填充在填埋槽内构成大阵列APD基板,该制备方法在保证较高良率的同时,简化生成工艺流程,降低成本,实现高密度、大规模、高性能的大阵列APD基板的制备。
申请人信息
- 申请人:北京大学
- 申请人地址:100871 北京市海淀区颐和园路5号
- 发明人: 北京大学
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 基于埋入式硅基的大阵列APD基板及制备方法、功能芯片 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410190425.7 |
| 申请日 | 2024/2/21 |
| 公告号 | CN117747601A |
| 公开日 | 2024/3/22 |
| IPC主分类号 | H01L25/04 |
| 权利人 | 北京大学 |
| 发明人 | 陈浪; 王玮; 张盼; 徐涵 |
| 地址 | 北京市海淀区颐和园路5号 |
专利主权项内容
1.一种基于埋入式硅基的大阵列APD基板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:提供晶圆基底;对所述晶圆基底的第一侧进行刻蚀处理,在所述晶圆基底的所述第一侧形成第一数量的填埋槽,所述填埋槽包括中心区域,以及位于所述中心区域与所述填埋槽内壁之间的第一间隙;将多个APD单元填入多个所述填埋槽的所述中心区域内,以使所述APD单元与所述填埋槽的槽底键合,其中,所述填埋槽与所述APD单元一一对应,所述APD单元为APD芯片阵列或APD芯片,所述APD芯片阵列包含阵列排布的多个APD芯片;对所述晶圆基底的所述第一侧进行表面钝化处理,得到所述大阵列APD基板。