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基于激光加工的微凸点基板及制备方法、微凸点互联结构

申请号: CN202410190422.3
申请人: 北京大学
申请日期: 2024/2/21

摘要文本

来自马-克-数-据-官网 本申请提供一种基于激光加工的微凸点基板及制备方法、微凸点互联结构,涉及电子制造领域,包括:提供晶圆基底;在所述晶圆基底的一侧形成掩膜层,基于激光处理工艺对掩膜层进行曝光处理,在掩膜层形成多个贯穿掩膜层的通孔,并在通孔内填充第一金属;去除掩膜层,对晶圆基底靠近所述第一金属的一侧进行刻蚀处理,形成阵列排布的多个微凸点,微凸点的直径小于或等于2μm;在微凸点的间隙中形成绝缘层,得到微凸点基板。本申请通过激光处理工艺对掩膜层进行处理,可以在掩膜层上形成直径更小、厚度更大的通孔,基于激光处理工艺形成的通孔可以制备得到具有直径小于2微米的微凸点的基板。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 基于激光加工的微凸点基板及制备方法、微凸点互联结构
专利类型 发明申请
申请号 CN202410190422.3
申请日 2024/2/21
公告号 CN117747455A
公开日 2024/3/22
IPC主分类号 H01L21/60
权利人 北京大学
发明人 陈浪; 王玮
地址 北京市海淀区颐和园路5号

专利主权项内容

1.一种基于激光加工的微凸点基板制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:提供晶圆基底;在所述晶圆基底的一侧形成掩膜层,基于激光处理工艺对所述掩膜层进行曝光处理,在所述掩膜层形成多个贯穿所述掩膜层的通孔,并在所述通孔内填充第一金属;去除所述掩膜层,对所述晶圆基底靠近所述第一金属的一侧进行刻蚀处理,形成阵列排布的多个微凸点,所述微凸点的直径小于或等于2μm;在所述微凸点的间隙中形成绝缘层,得到所述微凸点基板。。微信公众号马克 数据网