← 返回列表
基于两步原位光刻实现微流控芯片键合的方法
摘要文本
本发明涉及微流控生物芯片技术领域,更具体的说是基于两步原位光刻实现微流控芯片键合的方法;方法为:将光刻胶通过流道掩膜版进行光刻制备成光刻胶流道层;将紫外光敏胶对准并压紧在光刻胶流道层上,继续使用与S1相同位置进行光刻;将紫外胶流道层和光刻胶流道层粘合放入显影液中显影,实现初步键合;固化后,放置室温后即可完成键合;本发明的有益效果为解决键合使用环境要求高、成本高、限制微流控芯片的使用范围、容易造成流道阻塞等问题;因此需要一种操作简便、成本低廉且具有良好的流道特性的微流控芯片的键合方式。
申请人信息
- 申请人:微纳动力(北京)科技有限责任公司
- 申请人地址:100000 北京市海淀区学院路35号世宁大厦14层1409
- 发明人: 微纳动力(北京)科技有限责任公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 基于两步原位光刻实现微流控芯片键合的方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410153755.9 |
| 申请日 | 2024/2/4 |
| 公告号 | CN117706869A |
| 公开日 | 2024/3/15 |
| IPC主分类号 | G03F7/00 |
| 权利人 | 微纳动力(北京)科技有限责任公司 |
| 发明人 | 冯林; 王傲; 倪才鼎 |
| 地址 | 北京市海淀区学院路35号世宁大厦14层1409 |
专利主权项内容
1.基于两步原位光刻实现微流控芯片键合的方法,其特征在于:包括以下步骤,S1:将光刻胶通过流道掩膜版进行光刻制备成光刻胶流道层(3);S2:将紫外光敏胶对准并压紧在光刻胶流道层(3)上,继续使用与S1相同位置进行光刻;将紫外胶流道层(2)和光刻胶流道层(3)粘合放入显影液中显影,实现初步键合;固化后,放置室温后即可完成键合。