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一种适用于电子封装的连接结构的制备方法及连接结构
摘要文本
本申请提供了一种适用于电子封装的连接结构的制备方法及连接结构,该方法包括:在被接基材的表面沉积种子层;在表面改性后的被接基材上旋涂光刻材料;通过光刻技术将光刻材料图形化,形成具有多个目标区域的凸点模板;在每个目标区域内交替沉积空穴模型层和金属层;空穴模型层表征为至少一个颗粒体在目标区域内按照预设参数排列;去除空穴模型层和凸点模板,至少一个颗粒体一一对应形成至少一个孔道,得到多个具有空穴结构的焊接凸点;预设参数包括颗粒体粒径、颗粒体形状和颗粒体间隙中的至少一种。通过本发明提供的制备方法,制备出的焊接凸点缓解了凸点在高温回流焊接过程中产生的热应力,降低了在高温环境下微凸点断连的风险。
申请人信息
- 申请人:北京大学
- 申请人地址:100871 北京市海淀区颐和园路5号
- 发明人: 北京大学
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种适用于电子封装的连接结构的制备方法及连接结构 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410245397.4 |
| 申请日 | 2024/3/5 |
| 公告号 | CN117832170A |
| 公开日 | 2024/4/5 |
| IPC主分类号 | H01L21/768 |
| 权利人 | 北京大学 |
| 发明人 | 张驰; 杜建宇; 陈浪; 石上阳; 王玮 |
| 地址 | 北京市海淀区颐和园路5号 |
专利主权项内容
1.一种适用于电子封装的连接结构的制备方法,其特征在于,所述方法包括:准备被接基材,在所述被接基材的表面沉积种子层;在表面改性后的所述被接基材上旋涂光刻材料;通过光刻技术将所述光刻材料图形化,形成具有多个目标区域的凸点模板;在每个所述目标区域内交替沉积空穴模型层和金属层;其中,所述空穴模型层表征为至少一个颗粒体在所述目标区域内按照预设参数排列;去除所述空穴模型层和所述凸点模板,至少一个所述颗粒体一一对应形成至少一个孔道,得到多个具有空穴结构的焊接凸点;其中,所述预设参数包括颗粒体粒径、颗粒体形状和颗粒体间隙中的至少一种。 微信公众号马克 数据网