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磁存储器及其制备方法、电子设备

申请号: CN202410001101.4
申请人: 致真存储(北京)科技有限公司
申请日期: 2024/1/2

摘要文本

本申请提供一种磁存储器及其制备方法、电子设备,涉及半导体技术领域,用于解决存储密度较低的技术问题。该磁存储器包括至少一个行单元,每个行单元包括自旋轨道转矩层、至少两个磁隧道结和选择器。至少两个磁隧道结沿第一方向间隔排布在自旋轨道转矩层,最外侧的两个磁隧道结彼此背离的一侧分别设置有选择器。选择器还与自旋轨道转矩层耦接,且被配置为允许电流在自旋轨道转矩层沿第一方向或者第二方向流动。通过两个选择器可以改变自旋轨道转矩层内电流的流动方向,无需设置晶体管,可以降低其所占用面积,从而提升磁存储器的存储密度。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 磁存储器及其制备方法、电子设备
专利类型 发明申请
申请号 CN202410001101.4
申请日 2024/1/2
公告号 CN117500281A
公开日 2024/2/2
IPC主分类号 H10B61/00
权利人 致真存储(北京)科技有限公司
发明人 熊丹荣; 刘宏喜; 曹凯华; 王戈飞
地址 北京市海淀区知春路6号(锦秋国际大厦)10层A03

专利主权项内容

1.一种磁存储器,其特征在于,所述磁存储器具有至少一个行单元,每个所述行单元包括:自旋轨道转矩层、至少两个磁隧道结和选择器;所述至少两个磁隧道结设置在所述自旋轨道转矩层上且沿第一方向间隔排布,所述至少两个磁隧道结中位于最外侧的两个所述磁隧道结彼此背离的一侧分别设置有所述选择器,所述选择器与所述自旋轨道转矩层耦接,被配置为允许电流在所述自旋轨道转矩层沿第一方向或者第二方向流动,所述第二方向与所述第一方向相反。 来自马-克-数-据-官网