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一种化学增幅型负性光敏聚酰亚胺组合物及其应用
摘要文本
本发明公开了一种化学增幅型负性光敏聚酰亚胺组合物及其应用。本发明提供的组合物由包括如下重量份的原料制得：低分子量聚酰亚胺树脂100份、交联剂3～30份、产酸剂5～20份、扩链剂2～20份、阻聚剂0.1～10份、助粘剂0～40份。本发明先通过氨基保护剂和透明单体获得低分子量聚酰亚胺树脂，再利用扩链剂获得高分子树脂，从而提高了聚酰亚胺树脂组合物的工艺性能，由其制得的聚酰亚胺薄膜具有良好的韧性，能够作为涂层胶用于半导体芯片的封装。
申请人信息
- 申请人:明士(北京)新材料开发有限公司
- 申请人地址:101399 北京市顺义区民泰路13号院
- 发明人: 明士(北京)新材料开发有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种化学增幅型负性光敏聚酰亚胺组合物及其应用 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410228348.X |
| 申请日 | 2024/2/29 |
| 公告号 | CN117806123A |
| 公开日 | 2024/4/2 |
| IPC主分类号 | G03F7/038 |
| 权利人 | 明士(北京)新材料开发有限公司 |
| 发明人 | 于悦; 王立哲; 曹雪媛; 贾斌 |
| 地址 | 北京市顺义区民泰路13号院 |
专利主权项内容
1.一种负性光敏聚酰亚胺组合物，由包括如下重量份的原料制得：低分子量聚酰亚胺树脂100份、交联剂3～30份、产酸剂5～20份、扩链剂2～20份、阻聚剂0.1～10份、助粘剂0～40份。