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一种用于激光止痛仪的激光光学系统

申请号: CN202410020422.9
申请人: 长春艾迪尔医用科技发展有限公司
申请日期: 2024/1/8

摘要文本

本发明公开一种用于激光止痛仪的激光光学系统,属于医疗设备技术领域,目的解决现有技术存在的无法精确控制激光的辐射范围和功率以及治疗过程中无法进行疼痛区域的准确定位和调节问题。本发明的一种用于激光止痛仪的激光光学系统包括红外激光器、指示光源、透射扩束系统、激光反射系统、激光合束系统、离轴扩束系统、光阑和参数控制系统;红外激光器发射的红外激光光束经透射扩束系统扩束后进入到激光反射系统,激光反射系统反射的激光光束和指示光源发出的光束经激光合束系统合束并同轴输出后进入到离轴扩束系统,离轴扩束系统扩束后的光纤经光阑输出;通过所述参数控制系统调控所述红外激光器的功率密度以及所述指示光源的功率密度。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种用于激光止痛仪的激光光学系统
专利类型 发明授权
申请号 CN202410020422.9
申请日 2024/1/8
公告号 CN117504158B
公开日 2024/3/29
IPC主分类号 A61N5/067
权利人 长春艾迪尔医用科技发展有限公司
发明人 高勋; 张东明; 金辉; 于海龙; 尹菲; 朱林涛; 张强
地址 吉林省长春市九台经济开发区卡伦镇老街北侧(大学生创业园)10号厂房

专利主权项内容

1.一种用于激光止痛仪的激光光学系统,其特征在于,包括红外激光器(1)、指示光源(7)、透射扩束系统、激光反射系统、激光合束系统、离轴扩束系统、光阑(11)和参数控制系统;红外激光器(1)发射的红外激光光束经透射扩束系统扩束后进入到激光反射系统,激光反射系统反射的激光光束和指示光源(7)发出的光束经激光合束系统合束并同轴输出后进入到离轴扩束系统,离轴扩束系统扩束后的光束经光阑(11)输出;通过所述参数控制系统调控所述红外激光器(1)的功率密度以及所述指示光源(7)的功率密度;所述透射扩束系统包括沿红外激光器(1)光轴方向依次设置的10倍透射扩束主镜(2)和10倍透射扩束次镜(3);所述10倍透射扩束主镜(2)为凹透镜,所述10倍透射扩束次镜(3)为凸透镜,红外激光器(1)发射出的红外激光光束依次10倍透射扩束主镜(2)和10倍透射扩束次镜(3)后输出平行光束;所述10倍透射扩束主镜(2)为双面镀10.6μm增透膜的凹透镜,平均透射率大于99%,所述10倍透射扩束次镜(3)为双面镀10.6μm增透膜的凸透镜,平均透射率大于99%;所述激光反射系统包括第一激光反射镜(4)、第二激光反射镜(5)和第三激光反射镜(6);第一激光反射镜(4)、第二激光反射镜(5)和第三激光反射镜(6)均为单面镀10.6μm反射膜的10.6μm反射镜,平均反射率大于99%,45°入射角反射;经透射扩束系统发出的激光依次经第一激光反射镜(4)、第二激光反射镜(5)和第三激光反射镜(6)反射后进入激光合束系统;所述激光合束系统为镀有10.6μm增透膜,平均透射率大于95%以及镀有650nm反射膜,平均反射率大于75%的合束镜(8);所述离轴扩束系统包括5倍离轴扩束主镜(9)和5倍离轴扩束次镜(10),经激光合束系统发出的合束光依次经5倍离轴扩束主镜(9)和5倍离轴扩束次镜(10)后输出平行光束;所述5倍离轴扩束主镜(9)及所述5倍离轴扩束次镜(10)为10.6±0.5μm范围上具有大于95%的平均反射率以及在650±50nm具有大于75%的平均反射率的离轴抛物面镜;所述红外激光器(1)为CO射频激光器,输出中心波长为10.6μm;所述指示光源(7)为半导体激光器,输出中心波长为650nm。<