一种晶圆刻蚀装置及刻蚀方法

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马 克 数 据 网 1.一种晶圆刻蚀装置，其特征在于，包括支撑底盘(1)、晶圆运输机构、湿法刻蚀机构、水洗机构以及烘干机构，晶圆运输机构、湿法刻蚀机构、水洗机构以及烘干机构均设于支撑底盘(1)上；晶圆运输机构包括竖板(2)、横板(3)、环固定杆(10)、定位环(11)、上料箱(12)、固定座(16)、第一电机(17)、第一直齿轮(18)、第二直齿轮(19)、第一传动条(20)、第三直齿轮(21)、第二传动条(22)、传动板(23)、运输件(24)以及两个支撑机构，竖板(2)以及固定座(16)均固接于支撑底盘(1)顶壁，横板(3)以及环固定杆(10)均固接于竖板(2)侧壁，定位环(11)固接于环固定杆(10)上，上料箱(12)底壁滑动连接有活动式底板(13)，上料箱(12)内叠放有两个以上晶圆本体(15)，上料箱(12)侧壁固接有限位块(14)，上料箱(12)穿过定位环(11)，限位块(14)底壁和定位环(11)顶壁相抵，第一电机(17)固接于固定座(16)前壁，第一直齿轮(18)固接于第一电机(17)输出轴上，第二直齿轮(19)以及第三直齿轮(21)均转动连接于固定座(16)前壁，第二直齿轮(19)以及第三直齿轮(21)分别和第一直齿轮(18)啮合，第一传动条(20)转动连接于第二直齿轮(19)前壁，第二传动条(22)转动连接于第三直齿轮(21)前壁，第一传动条(20)以及第二传动条(22)均和传动板(23)固接，两个以上运输件(24)固接于传动板(23)顶壁；支撑机构包括横杆(7)以及斜杆(8)，横杆(7)固接于竖板(2)侧壁，斜杆(8)固接于横杆(7)上，横杆(7)水平设置，斜杆(8)倾斜设置；湿法刻蚀机构以及水洗机构设于横板(3)上；湿法刻蚀机构包括晶圆检测传感器(4)和刻蚀液喷头(5)，晶圆检测传感器(4)以及刻蚀液喷头(5)均固接于横板(3)底壁；水洗机构包括水洗喷头(6)，水洗喷头(6)连接于横板(3)底壁；烘干机构包括第一传动杆(25)、第二传动杆(26)、第一楔形块(27)、第二电机(28)、转盘(29)、第一蜗轮(30)、铰接杆(32)、第二楔形块(37)、转座(38)、拉线(43)、第一传动轮(45)、第一蜗杆(46)以及烘干箱(54)，第一传动杆(25)固接于传动板(23)上，第二传动杆(26)固接于第一传动杆(25)上，第一楔形块(27)固接于第二传动杆(26)上，第二电机(28)以及拉线(43)均固接于支撑底盘(1)顶壁，转盘(29)以及第一蜗轮(30)均固接于第二电机(28)输出轴上。