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一种环形同轴明暗场同步光学相干层析成像装置
摘要文本
本发明涉及一种环形同轴明暗场同步光学相干层析成像装置，包括：双干涉仪和与之共用的一个宽带光谱仪；双干涉仪配置有明场和暗场两个参考臂，且样品臂的明场和暗场是共光轴的。本发明的环形同轴明暗场同步光学相干层析成像装置，将改变现有标准OCT只有一个明场图像的配置，实现明场和暗场图像的同步探测。在保留明场图像的基础上，获得分辨率更高、对比度更高、分辨率更高的暗场图像。在极低成本的基础上，可改装现有OCT系统，使其具备探测额外小角度暗场散射光的能力，实现深层组织的高分辨率检测和治疗的能力。
申请人信息
- 申请人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 申请人地址:130033 吉林省长春市东南湖大路3888号
- 发明人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种环形同轴明暗场同步光学相干层析成像装置 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410073328.X |
| 申请日 | 2024/1/18 |
| 公告号 | CN117678967A |
| 公开日 | 2024/3/12 |
| IPC主分类号 | A61B3/10 |
| 权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 发明人 | 王玉坤; 刘琳波; 穆全全 |
| 地址 | 吉林省长春市东南湖大路3888号 |
专利主权项内容
1.一种环形同轴明暗场同步光学相干层析成像装置，其特征在于，包括：双干涉仪和与之共用的一个宽带光谱仪；所述双干涉仪配置有明场和暗场两个参考臂，且样品臂的明场和暗场是共光轴的；从宽带光源发出的光经分光后进入样品臂、明场参考臂和暗场参考臂；进入明场参考臂和暗场参考臂的参考光经反射镜反射后将原路返回，并引入一个参考的延迟量；进入样品臂的探测光被聚焦至样品内部，后经样品散射和反射也经原路返回，并与参考光进行干涉；明场参考臂和暗场参考臂的反射信号存在的时延与样品内部的结构信息相关，且会对干涉光谱产生调制；明暗场的干涉光谱经光栅分光，最后由宽带光谱仪接收；采集的干涉信号经傅里叶变换便能重构出探测光聚焦方向上深度解析的反射率包络。。马-克-数据