一种晶圆清洗装置及晶圆清洗方法
摘要文本
本发明涉及晶圆生产技术领域，具体提供一种晶圆清洗装置及晶圆清洗方法，装置包括底座、总支架、传输机构、抛光机构、出浆机构以及清洁机构，总支架固接于底座顶壁，传输机构、抛光机构、出浆机构以及清洁机构均设于总支架上。本发明可实现传动槽的间歇性运动，从而使晶圆本体在传输的过程中，可以停留在储料口下方、抛光盘下方一段时间，实现挤出板对储料腔内的研磨浆进行间歇性挤出至晶圆本体上，实现抛光盘下移对晶圆本体进行抛光操作，联动性高，设计巧妙，可自动去除研磨浆和碎屑，无需人工清洁，提高生产质量，节省人力物力。
申请人信息
- 申请人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 申请人地址:130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
- 发明人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种晶圆清洗装置及晶圆清洗方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410167915.5 |
| 申请日 | 2024/2/6 |
| 公告号 | CN117697606A |
| 公开日 | 2024/3/15 |
| IPC主分类号 | B24B29/02 |
| 权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 发明人 | 李彦庆; 郭同健; 张海宇 |
| 地址 | 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号 |
专利主权项内容
1.一种晶圆清洗装置，其特征在于，包括底座(1)、总支架(2)、传输机构、抛光机构、出浆机构以及清洁机构，总支架(2)固接于底座(1)顶壁，传输机构、抛光机构、出浆机构以及清洁机构均设于总支架(2)上；所述传输机构包括第一电机(3)、第一传动条(5)、第二传动条(6)、滑块(7)、推齿(8)、第一转盘(10)、第二转盘(11)以及传动软带(12)，第一电机(3)固接于总支架(2)前壁，第一输出轴(4)设于第一电机(3)上，第一传动条(5)固接于第一输出轴(4)上，第二传动条(6)转动连接于第一传动条(5)上，滑块(7)转动连接于第二传动条(6)上，滑块(7)滑动连接于总支架(2)前壁，第一转盘(10)以及第二转盘(11)均转动连接于总支架(2)前壁，第一转盘(10)通过传动软带(12)和第二转盘(11)连接，传动软带(12)上开设有两个以上传动槽(13)，传动槽(13)一侧壁为斜面，推齿(8)转动连接于滑块(7)前壁，滑块(7)插入其中一个传动槽(13)内；传动软带(12)后壁固接有两个以上晶圆固定机构；清洁机构包括第一转轮(18)、第二转轮(19)、转向件(50)、喷头(55)、第一直齿条(56)、直齿轮(57)、第二直齿条(58)、第二连接条(59)、第四楔形块(60)、第四弹性件(61)以及第二连接片(62)；第一转轮(18)以及第二转轮(19)均转动连接于转板(16)后壁，转向件(50)、喷头(55)以及第二连接片(62)均固接于总支架(2)前壁，喷头(55)和外部供水系统连接，转向件(50)上开设有两个缺口(51)，转向件(50)上固接有两个传导机构，传导机构包括导向件(52)、支撑条(53)以及第一连接条(54)，导向件(52)呈三棱柱形状，导向件(52)固接于支撑条(53)顶壁，支撑条(53)通过第一连接条(54)连接于转向件(50)上，两个导向件(52)分别位于两个缺口(51)下方，第一直齿条(56)以及第二直齿条(58)分别滑动连接于总支架(2)前壁，直齿轮(57)转动连接于总支架(2)前壁，第一直齿条(56)以及第二直齿条(58)分别和直齿轮(57)啮合，第四楔形块(60)通过第二连接条(59)和第二直齿条(58)连接，第二连接条(59)通过第四弹性件(61)和第二连接片(62)连接。