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矩阵法计算驻留时间的离散形式修正方法
摘要文本
本发明涉及光学加工驻留时间解算技术领域，尤其涉及一种矩阵法计算驻留时间的离散形式修正方法，首先获得离散化的待加工工件面形残差、去除函数以及抛光离散化的轨迹的散点，再根据驻留点的影响面积生成修正权重，并根据修正权重对矩阵法中的去除矩阵元素进行修正，得到修正后的离散化去除矩阵以及其与面形残差和驻留时间之间的矩阵方程；最后对矩阵方程进行求解，得到最终的每个驻留点对应的驻留时间解。本发明将离散化信息利用影响面积为修正权重进行补全，避免了变元增量的遗漏，使得驻留时间解在计算过程中达到均匀，提升驻留时间的精确程度。
申请人信息
- 申请人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 申请人地址:130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
- 发明人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 矩阵法计算驻留时间的离散形式修正方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410227836.9 |
| 申请日 | 2024/2/29 |
| 公告号 | CN117807816A |
| 公开日 | 2024/4/2 |
| IPC主分类号 | G06F30/20 |
| 权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 发明人 | 李龙响; 刘夕铭; 冯千龙; 李兴昶; 张峰; 张学军 |
| 地址 | 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号 |
专利主权项内容
1.一种矩阵法计算驻留时间的离散形式修正方法，其特征在于，具体包括以下步骤：S1：通过干涉仪测量待加工工件的面形，获得离散化的待加工工件的面形残差，/>表示所述待加工工件的离散面形点数；S2：对所述待加工工件的同材料的实验片进行单点加工，并测得离散化的去除函数；S3：根据所述待加工工件的面形采样尺寸设置抛光轨迹的类型和抛光轨迹参数，并设置所述抛光轨道上的驻留点，/>表示所述驻留点/>的点数；S4：根据所述驻留点的影响面积生成修正权重，并根据所述修正权重/>对所述去除函数/>进行修正，得到修正去除矩阵元素/>；S5：根据所述面形残差、所述修正去除矩阵元素/>构建求解所述驻留点上的驻留时间/>的矩阵方程；S6：对所述矩阵方程进行求解，得到最终的第个驻留点对应的驻留时间/>。 马-克-数据