← 返回列表

硫化氢脱除剂及其制备方法和硫化氢脱除方法

申请号: CN202410082072.9
申请人: 成都达奇科技股份有限公司
申请日期: 2024/1/19

摘要文本

本发明公开了硫化氢脱除剂及其制备方法和硫化氢脱除方法,属于烟气净化技术领域。硫化氢脱除剂包括:活性炭基体;尖晶石铁氧体,负载于所述活性炭基体表面;碱土金属氧化物,负载于所述活性炭基体表面并与所述尖晶石铁氧体混合;其中,将所述尖晶石铁氧体以化学式MFe2O4表示,M表示二价金属离子,则M为Cu和Zn中的至少一种。活性炭基体孔隙结构丰富,确保尖晶石铁氧比表面积,该尖晶石铁氧体是由氧化铁与氧化铜和/或氧化锌构成的复合金属氧化物,氧化铁、氧化铜和氧化锌均具备与硫化氢的反应活性,将Zn2+或Cu2+引入到氧化铁的晶格中,因离子半径的差异造成应变应力,在晶格表面形成氧空位,提高了电子迁移速率,进而可提高硫化氢脱除剂的穿透硫容。 (来自 马克数据网)

专利详细信息

项目 内容
专利名称 硫化氢脱除剂及其制备方法和硫化氢脱除方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410082072.9
申请日 2024/1/19
公告号 CN117582987A
公开日 2024/2/23
IPC主分类号 B01J23/78
权利人 成都达奇科技股份有限公司
发明人 黄昆明; 张利恒; 郭垚兵; 李江荣; 张怀民
地址 四川省成都市高新区萃华路89号、吉泰一街99号、升华路108号1幢1单元35层3502号

专利主权项内容

1.硫化氢脱除剂,其特征在于:包括:活性炭基体;以及尖晶石铁氧体,负载于所述活性炭基体表面;碱土金属氧化物,负载于所述活性炭基体表面并与所述尖晶石铁氧体混合;其中,将所述尖晶石铁氧体以化学式MFeO表示,M表示二价金属离子,则M为Cu和Zn中的至少一种。24