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一种用于玻璃表面处理的离子束刻蚀设备
摘要文本
本发明属于离子刻蚀设备技术领域,公开了一种用于玻璃表面处理的离子束刻蚀设备,包括一工作腔室,工作腔室连接有用于使其保持真空状态的真空系统,且工作腔室内设有离子源,离子源连接有用于为离子源提供至少一种刻蚀气体的充气系统,以通过离子源对刻蚀气体电离而形成刻蚀用的离子束;所述工作腔室内还设有多轴向移动机构,多轴向移动机构具有驱动端且通过驱动端连接有对应于所述离子源的固定板,固定板用于安装待刻蚀的目标玻璃。本发明能够便于在真空系统提供的真空条件下通过离子源进行目标玻璃的刻蚀作业,并且目标玻璃通过多轴向移动机构能够对大尺寸玻璃的实现均匀刻蚀,适用范围更大,刻蚀效果更好。
申请人信息
- 申请人:成都国泰真空设备有限公司
- 申请人地址:610000 四川省成都市温江区成都海峡两岸科技产业开发园科林西路618号
- 发明人: 成都国泰真空设备有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种用于玻璃表面处理的离子束刻蚀设备 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410015757.1 |
| 申请日 | 2024/1/5 |
| 公告号 | CN117510089A |
| 公开日 | 2024/2/6 |
| IPC主分类号 | C03C15/00 |
| 权利人 | 成都国泰真空设备有限公司 |
| 发明人 | 刘维龙; 王伟; 卢成; 张勇军; 魏佳; 黄桂祥; 杜涛 |
| 地址 | 四川省成都市温江区成都海峡两岸科技产业开发园科林西路618号 |
专利主权项内容
1.一种用于玻璃表面处理的离子束刻蚀设备,其特征在于:包括一工作腔室(11),工作腔室(11)连接有用于使其保持真空状态的真空系统(2),且工作腔室(11)内设有离子源(4),离子源(4)连接有用于为离子源(4)提供至少一种刻蚀气体的充气系统(3),以通过离子源(4)对刻蚀气体电离而形成刻蚀用的离子束;所述工作腔室(11)内还设有多轴向移动机构(5),多轴向移动机构(5)具有驱动端且通过驱动端连接有对应于所述离子源(4)的固定板(510),固定板(510)用于安装待刻蚀的目标玻璃(6)。