太阳电池及其制备方法、光伏组件
摘要文本
本发明涉及太阳电池技术领域,尤其涉及一种太阳电池及其制备方法、光伏组件。该太阳电池包括:N型的衬底;设于衬底受光面的图形化的第一钝化接触结构,包括厚度小于等于2 nm的第一介质层、N型的第一掺杂多晶硅层;设于衬底背光面的整面的第二钝化接触结构,包括厚度大于2nm且有通孔的第二介质层和P型的掺杂浓度为5×1018~3×1020 atom/cm3的第二掺杂多晶硅层;在衬底和第一钝化接触结构上的第一功能层,在第二掺杂多晶硅层上的第二功能层,穿透第一功能层与第一掺杂多晶硅层欧姆接触的第一电极,穿透第二功能层与第二掺杂多晶硅层欧姆接触的第二电极。
申请人信息
- 申请人:通威太阳能(眉山)有限公司
- 申请人地址:620038 四川省眉山市东坡区修文镇进修路8号附1号
- 发明人: 通威太阳能(眉山)有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 太阳电池及其制备方法、光伏组件 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202410017395.X |
| 申请日 | 2024/1/5 |
| 公告号 | CN117525179B |
| 公开日 | 2024/4/2 |
| IPC主分类号 | H01L31/0224 |
| 权利人 | 通威太阳能(眉山)有限公司 |
| 发明人 | 周凡; 周华; 何宇 |
| 地址 | 四川省眉山市东坡区修文镇进修路8号附1号 |
专利主权项内容
1.一种太阳电池,其特征在于,所述太阳电池包括:衬底,所述衬底具有N型导电类型;图形化的第一钝化接触结构,设于所述衬底的受光面,所述第一钝化接触结构包括靠近所述衬底的第一介质层、远离所述衬底的第一掺杂多晶硅层,所述第一掺杂多晶硅层具有所述N型导电类型;其中,所述第一介质层的厚度小于或者等于2 nm;整面的第二钝化接触结构,设于所述衬底的背光面,所述第二钝化接触结构包括靠近所述衬底的第二介质层、远离所述衬底的第二掺杂多晶硅层,所述第二掺杂多晶硅层具有不同于所述N型导电类型的P型导电类型,使所述第二掺杂多晶硅层与所述衬底构成PN结;其中,所述第二介质层的厚度大于2 nm,所述第二介质层具有连通所述衬底与所述第二掺杂多晶硅层的通孔,所述第二掺杂多晶硅层中P型导电元素的掺杂浓度为5×10 atom/cm~3×10 atom/cm;183203第一功能层,设于所述衬底的受光面以及所述第一掺杂多晶硅层远离所述衬底的一面;第二功能层,设于所述第二掺杂多晶硅层远离所述衬底的一面;第一电极,穿透所述第一功能层与所述第一掺杂多晶硅层欧姆接触;所述第一钝化接触结构的图形化区域与所述第一电极的图形化区域对应设置;第二电极,穿透所述第二功能层与所述第二掺杂多晶硅层欧姆接触。