← 返回列表

在金属薄膜表面利用激光刻蚀有机膜的方法

申请号: CN202410168538.7
申请人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日期: 2024/2/6

摘要文本

本发明公开了一种在金属薄膜表面利用激光刻蚀有机膜的方法,涉及激光刻蚀领域,包括:S1、将圆盘旋转组件固定在系统的工作台上,将待刻蚀样品通过工装、掩模板固定在圆盘旋转组件上;S2、调节脉冲激光器输出加工激光光束的位置和/或角度,以将光斑定位在待刻蚀样品的待刻蚀区域;S3、调节探测激光器输出探测激光光束的位置和/或角度,使探测激光光束沿预定角度到达待刻蚀区域后形成的反射光束,光功率探测器通过滤光片收集反射光束;S4、外部终端通过光功率探测器反馈的功率探测值对有机膜的刻蚀程度进行在线监测。本发明提供一种在金属薄膜表面利用激光刻蚀有机膜的方法,使用不同波长激光作为加工激光和探测激光,不存在干扰的同时便于在线实时监测。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 在金属薄膜表面利用激光刻蚀有机膜的方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410168538.7
申请日 2024/2/6
公告号 CN117697166A
公开日 2024/3/15
IPC主分类号 B23K26/362
权利人 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
发明人 何伟
地址 四川省绵阳市科学城绵山路64号

专利主权项内容

1.一种在金属薄膜表面利用激光刻蚀有机膜的方法,其特征在于,包括:S1、将圆盘旋转组件固定在系统的工作台上,将待刻蚀样品通过工装、掩模板固定在圆盘旋转组件上;S2、调节脉冲激光器输出加工激光光束的位置和/或角度,以将光斑定位在待刻蚀样品的待刻蚀区域;S3、调节探测激光器的探测激光光束的位置和/或角度,使探测激光光束沿预定角度到达待刻蚀区域后形成的反射光束,光功率探测器通过滤光片收集反射光束;S4、外部终端通过光功率探测器反馈的功率探测值对有机膜的刻蚀程度进行在线监测。