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一种掩膜版结构及半导体晶圆的对位标记的摆放方法

申请号: CN202410101478.7
申请人: 合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日期: 2024/1/25

摘要文本

本发明涉及半导体技术领域,特别涉及一种掩膜版结构及半导体晶圆的对位标记的摆放方法。掩膜版结构,包括:芯片图形区;内切割道区,设置于相邻芯片图形区之间;外切割道区,设置于多个芯片图形区四周;矩阵对位标记,呈矩形阵列布置于内切割道区或者外切割道区;对称对位标记,呈对称布置于内切割道区或者外切割道区;固定对位标记,布置于一个芯片图形区的一边或者一角;以及空白对位标记,布置于内切割道区或者外切割道区的空白区域。本发明可提高对位标记的摆放效率,使得对位标记自动化摆放的重复性能得到增强。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种掩膜版结构及半导体晶圆的对位标记的摆放方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410101478.7
申请日 2024/1/25
公告号 CN117631437A
公开日 2024/3/1
IPC主分类号 G03F1/42
权利人 合肥晶合集成电路股份有限公司
发明人 张新秀; 魏姣阳; 徐明睿; 罗文澜; 余仁
地址 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号

专利主权项内容

1.一种掩膜版结构,其特征在于,包括:芯片图形区;内切割道区,设置于相邻所述芯片图形区之间;外切割道区,设置于多个所述芯片图形区四周;矩阵对位标记,呈矩形阵列布置于所述内切割道区或者所述外切割道区;对称对位标记,呈对称布置于所述内切割道区或者所述外切割道区;固定对位标记,布置于所述内切割道区,且位于一个所述芯片图形区的一边或者一角位置处;以及空白对位标记,布置于所述内切割道区或者所述外切割道区的空白区域。