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晶圆金属元素分析方法及分析系统
摘要文本
本发明提供一种晶圆金属元素分析方法及分析系统,晶圆金属元素分析方法包括:刻蚀晶圆表面的硅化物;通过承接台承接所述晶圆;通过旋转轴驱动所述承接台转动;通过扫描管于所述晶圆表面牵引提取液运动,以收集金属离子溶液;改变所述旋转轴于所述承接台上的位置,以使得所述扫描管进行不同区域扫描;以及进行所述提取液的金属元素浓度检测,以确认所述晶圆污染源位置。本发明可准确收集缺陷区域金属污染的液滴,实现精准检测浓度,确定分布范围。
申请人信息
- 申请人:合肥晶合集成电路股份有限公司
- 申请人地址:230000 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号
- 发明人: 合肥晶合集成电路股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 晶圆金属元素分析方法及分析系统 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410101481.9 |
| 申请日 | 2024/1/25 |
| 公告号 | CN117637591A |
| 公开日 | 2024/3/1 |
| IPC主分类号 | H01L21/687 |
| 权利人 | 合肥晶合集成电路股份有限公司 |
| 发明人 | 刘云; 刘波; 余学会; 陆潇波 |
| 地址 | 安徽省合肥市新站区合肥综合保税区内西淝河路88号 |
专利主权项内容
1.一种晶圆金属元素分析方法,其特征在于,包括:刻蚀晶圆表面的硅化物;通过承接台承接所述晶圆;通过旋转轴驱动所述承接台转动;通过扫描管于所述晶圆表面牵引提取液运动,以收集金属离子溶液;改变所述旋转轴于所述承接台上的位置,以使得所述扫描管进行不同区域扫描;以及进行所述提取液的金属元素浓度检测,以确认所述晶圆污染源位置。