真空磁控溅射镀辊设备
摘要文本
本申请公开了真空磁控溅射镀辊设备，属于真空磁控溅射领域，其包括支撑架以及收纳箱，所述支撑架上设置有真空设备以及真空箱，所述支撑架上滑动设置有封闭门，所述封闭门上固定连接有工作架，所述真空箱内设置有用于与所述工作架滑移配合的滑轨，所述工作架上设置有用于支撑辊体的滑动座，所述工作架上转动安装有靶材，所述靶材穿过所述封闭门，所述封闭门上设置有第一驱动组件，所述封闭门远离所述真空箱的侧壁上设置有第二驱动组件，所述工作架上设置有第三驱动组件，所述支撑架与所述封闭门之间设置有辅助组件。本申请具有方便操作人员装卸靶材以及滚筒，提高靶材利用率，降低靶材打弧情况的效果。
申请人信息
- 申请人:合肥东昇智能装备股份有限公司
- 申请人地址:230000 安徽省合肥市经济技术开发区集贤路2606号
- 发明人: 合肥东昇智能装备股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 真空磁控溅射镀辊设备 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410137183.5 |
| 申请日 | 2024/2/1 |
| 公告号 | CN117660910A |
| 公开日 | 2024/3/8 |
| IPC主分类号 | C23C14/35 |
| 权利人 | 合肥东昇智能装备股份有限公司 |
| 发明人 | 王勇; 吴涛 |
| 地址 | 安徽省合肥市经济技术开发区集贤路2606号 |
专利主权项内容
1.真空磁控溅射镀辊设备，包括支撑架(1)以及收纳箱(11)，所述支撑架(1)上设置有真空设备(2)以及真空箱(12)，所述支撑架(1)上滑动设置有封闭门(13)，其特征在于：所述封闭门(13)上固定连接有工作架(14)，所述真空箱(12)内设置有用于与所述工作架(14)滑移配合的滑轨，所述工作架(14)上设置有用于支撑辊体的滑动座(15)，所述工作架(14)上转动安装有靶材(3)，所述靶材(3)穿过所述封闭门(13)，所述封闭门(13)上设置有第一驱动组件(4)，所述封闭门(13)远离所述真空箱(12)的侧壁上设置有第二驱动组件，所述工作架(14)上设置有第三驱动组件(6)，所述支撑架(1)与所述封闭门(13)之间设置有辅助组件(5)，所述第一驱动组件(4)用于驱动所述封闭门(13)移动，所述第一驱动组件(4)驱动所述封闭门(13)关闭时，所述第二驱动组件驱动所述靶材(3)转动对辊体进行磁控溅射，所述第一驱动组件(4)驱动所述封闭门(13)开启后，所述第三驱动组件(6)驱动所述滑动座(15)移动并对辊体进行释放或者重新夹持未镀膜的辊体，所述辅助组件(5)帮助已镀膜辊筒进入所述收纳箱(11)内，所述第一驱动组件(4)、所述第二驱动组件、所述第三驱动组件(6)以及所述辅助组件(5)相互独立。 来源：马 克 数 据 网