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半导体离子薄膜材料的制备装置、方法及薄膜材料

申请号: CN202410204900.1
申请人: 芜湖新航薄膜科技有限公司
申请日期: 2024/2/26

摘要文本

本发明提供半导体离子薄膜材料的制备装置、方法及薄膜材料,包括:真空罐,固定设置于底部基座上;稳流装置,固定设置于真空罐上方,稳流装置的气体出口通过管道与真空罐内部连通;扩散泵,固定设置于底部基座上,其气体入口与真空罐内部连通;前级真空泵,与扩散泵的气体出口通过管道连通;其特征在于,所述真空罐内部设置旋转靶体组件,用于促进目标原子与氩气充分的接触,使得靶体上的目标原子能够均匀消耗,延长的了靶体的使用寿命;通过设置稳流装置和靶体,通过靶体内部的磁铁方向始终向上,促使目标原子沉积在基板上排列更加整齐、致密,减少缺陷。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 半导体离子薄膜材料的制备装置、方法及薄膜材料
专利类型 发明申请
申请号 CN202410204900.1
申请日 2024/2/26
公告号 CN117778979A
公开日 2024/3/29
IPC主分类号 C23C14/35
权利人 芜湖新航薄膜科技有限公司
发明人 李健; 储一平; 周聪; 刘浩
地址 安徽省芜湖市湾沚区安徽新芜经济开发区蟠龙路5号

专利主权项内容

1.一种半导体离子薄膜材料的制备装置,包括:真空罐,固定设置于底部基座上;稳流装置,固定设置于真空罐上方,稳流装置的气体出口通过管道与真空罐内部连通;扩散泵,固定设置于底部基座上,其气体入口与真空罐内部连通;前级真空泵,与扩散泵的气体出口通过管道连通;其特征在于,所述真空罐内部设置旋转靶体组件,所述旋转靶体组件包括电机、环形支架、前圆盘、后圆盘、靶体以及法兰;所述环形支架周向固定设置于真空罐内壁上,所述电机通过支架固定设置于环形支架一侧;所述法兰与环形支架同轴固定设置;所述前圆盘和后圆盘同轴,且轴心处设置中心轴,中心轴两端与前圆盘和后圆盘固定连接;所述电机的转轴通过法兰和前圆盘轴心处与所述中心轴传动连接;所述前圆盘和后圆盘之间的空间设置若干个圆柱形的靶体,所述靶体的两端固定设置前短轴和后短轴,所述前短轴和后短轴均分别和前圆盘和后圆盘固定连接;所述靶体包括轴承、内筒、滑动件以及液体介质;所述靶体外部为圆柱形,内部中空,所述轴承设置于靶体内部中空部分的两端;所述内筒可沿周向转动的设置于靶体内部,其两端与轴承的内环固定连接;所述两个滑动件对称设置于内筒的内部,且滑动件的外侧与内筒的内壁可进行相对滑动,且处于密封状态;所述滑动件中间设置凹槽,用于安装固定磁铁片;磁铁片与内筒的下半部空间设置液体介质,用于在靶体旋转状态下保持磁铁片方向始终向上。