一种双介质阻挡放电低温等离子体工业废气处理系统
摘要文本
本发明属于废气处理技术领域，公开了一种双介质阻挡放电低温等离子体工业废气处理系统，包括第一箱体，其顶部固定贯穿安装有储气管，储气管中部固定贯通连接有吸气管的下端，储气管的端部转动贯穿安装有驱动件的主轴；还包括装载架，其竖直滑动嵌设在储气管的端部，驱动件的主轴端部固定连接有同轴设置的扇叶，扇叶位于储气管的内部轴线处，用于吸入外界废气；处理筒，其进气端固定连通在储气管远离吸气管的一侧，处理筒的端部固定贯穿安装有竖直设置的切换机构，且处理筒的内部固定安装有用于净化废气的两组处理机构。本发明可以延长废气在处理系统内停留的时间，从而能够更为充分的净化废气中有害物质，确保了对工业废气的处理效果。
申请人信息
- 申请人:天泓环境科技有限责任公司
- 申请人地址:255086 山东省淄博市高新区青龙山路9009号仪器仪表产业园13号楼428室
- 发明人: 天泓环境科技有限责任公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种双介质阻挡放电低温等离子体工业废气处理系统 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410255900.4 |
| 申请日 | 2024/3/6 |
| 公告号 | CN117815859A |
| 公开日 | 2024/4/5 |
| IPC主分类号 | B01D53/32 |
| 权利人 | 天泓环境科技有限责任公司 |
| 发明人 | 周兆瑞; 张涛; 侯正奇 |
| 地址 | 山东省淄博市高新区青龙山路9009号仪器仪表产业园13号楼428室 |
专利主权项内容
1.一种双介质阻挡放电低温等离子体工业废气处理系统，包括：第一箱体(1)，其顶部固定贯穿安装有水平设置的储气管(2)，储气管(2)中部固定贯通连接有吸气管(3)的下端，且吸气管(3)的上端固定贯穿于第一箱体(1)的顶部设置，储气管(2)的端部转动贯穿安装有驱动件(4)的主轴，且驱动件(4)的驱动电机固定安装在第一箱体(1)上；其特征在于，还包括：装载架(14)，其竖直滑动嵌设在储气管(2)的端部，装载架(14)的正下方设置有驱动件(4)的主轴，且驱动件(4)的主轴转动贯穿于推力机构(9)设置，驱动件(4)的主轴端部固定连接有同轴设置的扇叶(10)，扇叶(10)位于储气管(2)的内部轴线处，用于吸入外界废气；处理筒(23)，其进气端固定连通在储气管(2)远离吸气管(3)的一侧，处理筒(23)的端部固定贯穿安装有竖直设置的切换机构(22)，且处理筒(23)的内部固定安装有用于净化废气的两组处理机构(29)，处理筒(23)的出气端固定连通在后处理箱(26)上，后处理箱(26)固定安装在第二箱体(30)的内壁上，且第二箱体(30)顶部固定贯穿安装有处理筒(23)的端部，储气管(2)靠近处理筒(23)的一侧外壁上固定连接有气泵(25)，且气泵(25)的排气管口固定连通在后处理箱(26)的侧壁上。