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角度依赖成像测量系统及方法

申请号: CN201811503399.X
申请人: 上海复享光学股份有限公司
更新日期: 2026-03-08

专利详细信息

项目 内容
专利名称 角度依赖成像测量系统及方法
专利类型 发明授权
申请号 CN201811503399.X
申请日 2018年12月10日
公告号 CN109696298B
公开日 2024年1月26日
IPC主分类号 G01M11/02
权利人 上海复享光学股份有限公司
发明人 赵茂雄; 石磊; 资剑; 殷海玮; 崔靖
地址 上海市杨浦区国定东路200号4号楼412-1室

摘要文本

本发明提供了一种角度依赖成像测量系统及方法,角度依赖成像测量系统沿同一光轴依次布置的物镜、光学透镜A、光学透镜C、光学透镜B和成像设备;满足以下条件:0≤d1≤2fA,fA<D=d5+d3+d4≤2fB+fA;其中,d1为物镜后的物镜后焦平面M0与光学透镜A之间的距离,fA为光学透镜A的焦距,D为光学透镜A与光学透镜B之间的距离,d5为光学透镜A与光学透镜A后的样品面第一次成像面S1之间的距离,d3为光学透镜A后的样品面第一次成像面S1与光学透镜C之间的距离,d4为光学透镜C与光学透镜B之间的距离,fB为光学透镜B的焦距。可实现实空间分辨和动量空间分辨,表征具有角度依赖材料的光学性质,弥补相应的光学测量技术空缺。

专利主权项内容

1.一种角度依赖成像测量系统,其特征在于:包括物镜、光学透镜A、光学透镜B、成像设备和可切换的光学透镜C,所述物镜、所述光学透镜A、所述光学透镜C、所述光学透镜B和所述成像设备沿同一光轴依次布置,所述成像设备位于所述光学透镜B后的后焦平面第一次成像面M1处或所述光学透镜B后的样品面第二次成像面S2处;角度依赖成像测量系统满足以下条件:0≤d≤2f1Af<D=d+d+d≤2f+fA534BA其中,d为所述物镜后的物镜后焦平面M0与所述光学透镜A之间的距离,f为所述光学透镜A的焦距,D为所述光学透镜A与所述光学透镜B之间的距离,d为光学透镜A与所述光学透镜A后的样品面第一次成像面S1之间的距离,d为所述光学透镜A后的样品面第一次成像面S1与所述光学透镜C之间的距离,d为所述光学透镜C与所述光学透镜B之间的距离,f为所述光学透镜B的焦距;1A534Bd=d=f;15Ad=f,其中,d为所述光学透镜B与所述成像设备之间的距离。2B2。 (来源 马克数据网)