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有机发光二极管结构及其制造方法

申请号: CN201810642272.X
申请人: 拓旷(上海)光电科技有限公司
更新日期: 2026-03-08

摘要文本

拓旷(上海)光电科技有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本发明公开一种有机发光二极管结构及其制造方法,其包括阳极层设置于基板上;电洞传输层设置于阳极层上;电洞传输辅助层设置于电洞传输层上,并进行黄光微影制程,电洞传输辅助层对电洞传输层的表面进行保护;至少一发光区块设置于电洞传输辅助层上,电洞传输辅助层电性导通于至少一发光区块与电洞传输层间;电子传输辅助层设置于至少一发光区块上,并进行黄光微影制程,电子传输辅助层对至少一发光区块的表面进行保护;电子传输层设置于电子传输辅助层上,电子传输辅助层电性导通于电子传输层与至少一发光区块间;以及阴极层设置于电子传输层上。本发明于有机发光二极管结构之制造方法中,更增加蒸镀电洞传输辅助层或/及电子传输辅助层的步骤,其有利于使用黄光微影制程进行有机发光二极管结构的制造。

专利主权项内容

1.一种有机发光二极管结构,其特征在于,所述有机发光二极管结构包括:基板;阳极层,其设置于所述基板上;电洞传输层,其设置于所述阳极层上;电洞传输辅助层,其设置于所述电洞传输层上,并进行黄光微影制程,所述电洞传输辅助层对所述电洞传输层的表面进行保护,所述电洞传输辅助层包括有机物与金属氧化物;至少一发光区块,其设置于所述电洞传输辅助层上,所述电洞传输辅助层电性导通于所述至少一发光区块与所述电洞传输层间;电子传输层,其设置于所述至少一发光区块上;以及阴极层,其设置于所述电子传输层上;其中所述黄光微影制程的步骤为:涂布光阻层于所述电洞传输辅助层;用光罩屏蔽所述光阻层,进行曝光;显影经曝光后的所述光阻层,除去部分的所述光阻层,而形成显露出部分的电洞传输辅助层的色光区域;将所述至少一发光区块形成于所述显露出部分的电洞传输辅助层的色光区域,从而所述至少一发光区块设置于所述电洞传输辅助层上。

专利申请信息

项目 内容
专利名称 有机发光二极管结构及其制造方法
专利类型 发明授权
申请号 CN201810642272.X
申请日 2018年6月21日
公告号 CN109326732B
公开日 2024年2月13日
IPC主分类号 H10K50/15
权利人 拓旷(上海)光电科技有限公司
发明人 施国兴; 李嘉宸; 严进嵘
地址 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区德堡路38号2幢楼五层504-47室