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具有图形的光罩的制造方法

申请号: CN201811608259.9
申请人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司; 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
更新日期: 2026-03-08

摘要文本

中芯国际集成电路制造(上海)有限公司; 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本发明提供具有图形的光罩的制造方法,包括:提供设计图形和标准测试图形;采用测试电子束光刻工艺写入所述标准测试图形,生成测试光罩,获取所述测试光罩中的测试图形与标准测试图形之间的位置偏差量;采用实际电子束光刻工艺写入所述设计图形,生成具有图形的光罩,且在所述实际电子束光刻工艺过程中,基于获取的所述位置偏差量对所述设计图形进行补偿,以抵消所述实际电子束光刻工艺中的反射电子对电子束位置造成的电子束位置偏移量。本发明提高了光罩中的图形位置精确度和形貌精确度,改善了形成的光罩的质量。 (来源 专利查询网)

专利主权项内容

1.一种具有图形的光罩的制造方法,其特征在于,包括:提供设计图形和标准测试图形;采用测试电子束光刻工艺写入所述标准测试图形,生成测试光罩,获取所述测试光罩中的测试图形与标准测试图形之间的位置偏差量;采用实际电子束光刻工艺写入所述设计图形,生成具有图形的光罩,且在所述实际电子束光刻工艺过程中,基于获取的所述位置偏差量对所述设计图形进行补偿,以抵消所述实际电子束光刻工艺中的反射电子对电子束位置造成的电子束位置偏移量;其中,基于所述位置偏差量对所述设计图形进行补偿的方法包括:基于所述位置偏差量对所述设计图形进行补偿修正,获得修正图形;采用实际电子束光刻工艺,在光罩内写入所述修正图形,生成所述具有图形的光罩;或者,基于所述位置偏差量对所述设计图形进行补偿的方法包括:所述设计图形对应具有电子束光刻工艺中的设计电子束投射位置,基于所述位置偏差量对所述设计电子束投射位置进行补偿修正,获得修正电子束投射位置;采用实际电子束光刻工艺,采用具有所述修正电子束投射位置的电子束在光罩内写入所述设计图形,生成所述具有图形的光罩。

专利申请信息

项目 内容
专利名称 具有图形的光罩的制造方法
专利类型 发明授权
申请号 CN201811608259.9
申请日 2018年12月27日
公告号 CN111381436B
公开日 2024年3月8日
IPC主分类号 G03F1/44
权利人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司; 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
发明人 李传
地址 上海市浦东新区张江路18号; 北京市大兴区文昌大道18号